激光微纳加工技术利用激光脉冲与材料的非线性作用，可以<100nm精度实现传统方法难以实现的复杂功能结构和器件的增材制造。而激光直写（DLW）光刻是一项具有空间三维加工
2023-12-22 10:34
本文是A. N. BROERS关于扫描电镜在微纳加工中应用的研究回顾，重点记录了他从1960年代开始参与电子束加工技术开发的历程。文章详细记录了EBL技术从概念萌芽到工
2025-06-20 16:11
近年来，随着科技的不断发展，微纳加工技术逐渐成为半导体领域的重要工具。
2024-01-23 10:43
聚焦离子束与电子束曝光系统相似，由发射源、离子光柱、工作台、真空与控制系统等结构组成，其核心为离子光学系统，适用的是液态金属离子源（例如镓离子源）。
2023-10-10 12:49
Bosch刻蚀工艺作为微纳加工领域的关键技术，对于HBM和TSV的制造起到了至关重要的作用。
2024-10-31 09:43
ICP-RIE全称是电感耦合等离子体刻蚀机，是半导体芯片微纳加工过程中必不可少的设备，可加工微米级纳米级的微型图案。
2024-04-30 12:43
激光直写技术作为一种新兴的微纳加工方式，直接将激光聚焦到基底表面。通过激光自身或载物台的移动，无需制造光掩模就可以在基底上绘制图案。因此，通过发展代替新型激光直写技术，可以快速且低成本地实现
2022-09-15 09:41
纳米压印技术，即Nanoimprint Lithography（NIL），是一种新型的微纳加工技术。该技术将设计并制作在模板上的微小图形，通过压印等技术转移到涂有高分子材料的硅基板上。
2023-05-19 09:37
