电子发烧友

半导体工业在光学微影技术的帮助下，长期形成持续且快速的成长态势，但光学微影在面对更精密的制程已开始出现应用瓶颈，尤其在小

2014-09-04 08:56

用途 光刻机是芯片制造的核心设备之一,按照用途可以分为好几种:有用于生产芯片的光刻机;有用于封装的光刻机

2021-03-30 18:17

、用途 光刻机是芯片制造的核心设备之一,按照用途可以分为好几种:有用于生产芯片的光刻机;有用于封装的

2021-03-27 10:00

极紫外光（EUV）微影技术持续取得重大进展。在日前于美国加州圣荷西举行的国际光电工程学会（SPIE）年度会议上，英特尔（Intel）与三星（Samsung）的专家表示，EUV正缓步进展中，但短时间内仍存在相当的障碍，

2017-03-02 07:30

正确投射到硅片上。“平面处理工艺”诞生之后成为集成电路的标准工艺，一直沿用至今，其最初采用的“干式”（以空气为介质）微影技术也沿用到上世纪90年代（镜头

2019-06-04 11:00

台积电总裁暨执行长魏哲家在日前法人说明会中指出，7+nm良率推进情况良好，预期第二季后进入量产阶段，台积电已经与数家客户合作，协助其第二代或第三代产品设计导入7+nm制程。台积电预期价格更好的7+nm量产后，将可在未来几年为7nm世代带来更大的成长空间。至于5nm目前研发进度符合预期，今年上半年会有客户完成晶片设计定案（tape-out），明年上半年将进入量产阶段。

2019-02-26 17:03

EUV被认为是推动半导体产业制造更小芯片的重要里程碑，但是根据目前的EUV微影技术发展进程来看，10奈米（nm）和7nm制程节点已经准备就绪，就是5nm仍存在很大的挑战。

2018-01-24 10:52

全球三大晶圆代工厂台积电、英特尔、三星，最快将在2019年导入极紫外光微影技术（EUV），值得注意的是，全球可提供EUV光罩盒的业者只有两家，家登是其中之一，且家登已经通过艾司摩尔（ASML）认证，此举无疑宣告，家登

2019-01-03 11:16

在这场最先进工艺产能的竞争中，随着三星和Intel的加入，无论是哪一家获得苹果或高通的芯片订单，没有获得这两家大客户订单的半导体代工厂都会争取大陆的芯片企业客户。

2016-09-02 09:22

专家们一致认为，过去几十年来一直扮演半导体创新引擎的摩尔定律（Moore“s Law ），正由于下一代超紫外光（EUV）微影技术的延迟而失去动力。

2012-10-10 10:53