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  • 异质运算的典型使用案例是什么?

    异质运算的典型使用案例是什么?迈向异质的编程模型时会面临哪些挑战?

    2021-06-01 06:52

  • 射频器件抑制互调干扰

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    (异质) 建15个part的方式,又得重画一边,太费时间了。有什么方式可以 快速把这15个part 定义成一个芯片封装 ?

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  • 集成式RF功放与滤波器前端大规模应用于移动手机

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    2019-06-25 07:04

  • 锗化硅工艺在高速通信领域有哪些应用?

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    2019-07-30 07:56

  • GaN基微波半导体器件材料的特性

    宽禁带半导体材料氮化镓(GaN)以其良好的物理化学和电学性能成为继第一代元素半导体硅(Si)和第二代化合物半导体砷化镓(GaAs)、磷化镓(GaP)、磷化铟(InP)等之后迅速发展起来的第三代半导体材料。与目前绝大多数的半导体材料相比,GaN 具有独特的优势:禁带更宽、饱和漂移速度更大、临界击穿电场和热导率更高,使其成为最令人瞩目的新型半导体材料之一。目前,GaN 基发光器件的研究已取得了很大进展[1~ 3] ,在国外工作于绿光到紫光可见光区内的GaN LED 早已实现了商业化[2];国内多家单位成功制作了蓝色发光二极管,并初步实现了产业化[3]。而众多的研究[4~ 14] 表明,GaN 材料在制作耐高温的微波大功率器件方面也极具优势。笔者从材料的角度分析了GaN 适用于微波器件制造的原因,介绍了几种GaN 基微波器件最新研究动态,对GaN 调制掺杂场效应晶体管(MODFETs)的工作原理以及特性进行了具体分析,并同其他微波器件进行了比较,展示了其在微波高功率应用方面的巨大潜力。

    2019-06-25 07:41

  • 集成式RF功放与滤波器前端设计

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    2019-06-26 08:17

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    Abstract— 一种用于射频和微波测试系统的高性能GaAsSb基区,InP集电区 DHBT IC 工艺被成功研发。这种GaAsSb工艺使得在工作电流为JC = 1.5 mA/µm²时fT 和 fmax分别达到了 185 GHz and 220 GHz,JC = 1.3 mA/µm²时开态击穿电压为BVcbx = 9 V 。典型  = 50。最大工作条件下 (Tj = 125 ºC, JC = 2.0 mA/µm²) 达到MTTF> 1 × 106 小时的寿命使之适用于测试级别的应用。DHBTs 集成了3层互联金属,包括2级电阻和MIM电容。在3”生产线上这种IC 技术已被用于制造Agilent Technologies instrumentation 产品。 关键词—DHBT, 磷化铟, 晶体管, 测试仪器,GaAsSb

    2019-07-04 06:52

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    2019-08-01 07:24

  • 如何采用DM270实现异质多处理器芯片中的数据流核心设计?

    本文以DM270平台为基础,设计了DSP端的数据流核心和ARM端的DSP管理者。

    2021-04-26 06:11