最近需要用到干法刻蚀技术去刻蚀碳化硅，采用的是ICP系列设备，刻蚀气体使用的是SF6+O2，碳化硅上面没有做任何掩膜，就是为了去除SiC表面损伤层达到表面改性的效果。但是实际刻
2022-08-31 16:29
AOE刻蚀氧化硅可以，同时这个设备可以刻蚀硅吗？大致的气体配比是怎样的，我这里常规的刻蚀气体都有，但是过去用的ICP，还没有用过AOE刻蚀硅，请哪位大佬指点一下，谢谢。
2022-10-21 07:20
如何去设计射频源控制信号模拟器？射频源控制信号模拟器的应用有哪些？
2021-04-22 06:40
太阳能电池薄膜激光刻蚀机配了台特域冷水机，用的是什么制冷机？
2017-11-25 14:30
为了在基板上形成功能性的MEMS结构，必须蚀刻先前沉积的薄膜和/或基板本身。通常，蚀刻过程分为两类：浸入化学溶液后材料溶解的湿法蚀刻干蚀刻，其中使用反应性离子或气相蚀刻剂溅射或溶解材料在下文中，我们将简要讨论最流行的湿法和干法蚀刻技术。
2021-01-09 10:17
作为洗清和刻蚀气体的三氟化氮广泛应用于电子行业，作为三氟化氮的替代产品碳酰氟已在推广。有这方面需求的可交流。电话***
2011-05-31 16:05
天线效应是什么？如何减少在集成电路中的天线效应？
2021-05-10 06:14
1. 机械应力强，形状稳定；高强度、高绝缘性、高导热率；防腐蚀，结合力强；2. 极好的热循环性能，循环次数可多达5万次，可靠性高；3. 使用温度宽-55℃～850℃；热膨胀系数接近硅，简化功率模块的生产工艺。4. 与PCB板（或IMS基片）一样可刻蚀出各种图形的结构；无污染、无公害；
2019-11-01 09:10
相位掩模板是一种表面刻蚀光栅，典型的基底材料是熔融石英。相位掩模板可作为精确的衍射光学元件，其典型应用是将入射单色光束(如准分子激光、氩离子激光、飞秒激光等)分成两束，然后在两光束的重叠区域产生
2016-12-22 20:06
1995年希腊科学家A.G.Nassiopuoulos等人用高分辨率的紫外线照相技术,各向异性的反应离子刻蚀和高温氧化的后处理工艺,首次在硅平面上刻划了尺寸小于20nm的硅柱和 硅线的表面结构,观察到了类似于多孔硅的光激发光现象。
2019-09-26 09:10
