刻蚀是半导体制造中最常用的工艺之一, 上海伯东日本 Atonarp Aston 质谱仪适用于等离子体刻蚀过程及终点监测 (干法刻蚀终点检测), 通过持续监控腔室工艺化学气体, 确保半导体晶圆生产
2024-10-18 13:33 伯东企业（上海）有限公司 企业号
表面污染情况，检查等离子清洗的效果及其影响参数。操作过程首先，将不锈钢板放在60°C的超声波清洗槽中，使用碱性清洗剂清洗15分钟，然后用去离子水彻底冲洗并干燥不锈钢
2022-06-27 11:48 佛山市翁开尔贸易有限公司 企业号
实验名称：辉光放电特征及风速测量原理 研究方向：辉光放电 测试设备：信号发生器、ATA-8202射频功率放大器，热成像仪、万用表、等离子体传感器 实验过程：在等离子体形成条件和流场响应
2024-07-19 10:40 Aigtek安泰电子 企业号
钰泰推出了两串三串锂电池主动均衡的充电方案，旨在解决现市面上多数两节，三节锂电池串联供电设备的充电问题。采用ETA6071+ETA3000的方式，ETA6071开关升压充电，而ETA3000是锂电池
2022-09-13 23:14 深圳市尊信电子技术有限公司 企业号
