的不断提升，光刻机缩激光波长也在不断的缩小，从436nm、365nm的近紫外（NUV）激光进入到246nm、193nm的
2020-07-07 14:22
的要求则反过来，我们要确保影像要绝对清晰，就要将对焦点落在光阻上，并且确保光阻绝对不可落到景深范围之外。那ASML的光刻机景深有多大呢？ 所以我们就是要把光阻移到这个100nm的范围之内，是不是有点
2020-09-02 17:38
中芯国际的芯片工艺目前已发展至14nm，若想将芯片工艺进一步提升至7nm乃至3nm等先进制程，EUV光刻机设备就必不可少。那么，中芯国际此次12亿美元的采购协议都有哪些
2021-03-10 14:36
光刻机和euv光刻机区别是是什么呢？ duv光刻机和euv光刻机区别 1.基本上duv只能做到25nm，而euv能够做到
2022-07-10 14:53
EUV主要用于7nm及以下制程的芯片制造，光刻机作为集成电路制造中最关键的设备，对芯片制作工艺有着决定性的影响，被誉为“超精密制造技术皇冠上的明珠”，根据之前中芯国际的公报，目...
2021-07-29 09:36
前不久，中芯国际花重金订购了ASML的光刻机，将于2019年到货。这边，长江存储4.6亿订购光刻机昨日到货，运抵武汉，我国两家芯片公司先后订购光刻机，彰显了核心技术领域努力追赶的决心。
2018-05-21 09:34
本文主要介绍光刻机的分类与原理。 光刻机分类 光刻机的分类方式很多。按半导体制造工序分类，光刻设备有前道和后道之分。前道光刻
2025-01-16 09:29
尽管ASML作为目前占据主导地位的光刻机厂商，凭借独有的EUV光刻机一骑绝尘，主导着半数以上的市场份额，但这并不代表着其他光刻机厂商也就“听天由命”了。以两大国外光刻机
2022-11-24 01:57
厂商尼康和佳能为例，他们就仍在坚持开发并扩展自己的光刻机业务。 尼康 尼康的光刻机产品阵容比较全面，包括ArF浸没式扫描
2022-11-24 07:10
光刻机是制作芯片并不可少的重要工具，大家都知道，光刻机技术几乎被荷兰ASML所垄断，那么全球最先进的光刻机是多少nm的？中国现在又能够做出几
2022-07-06 10:07
