翁寿松(无锡市罗特电子有限公司，江苏无锡214001)1 32 nm/22 nm工艺进展2006年1月英特尔推出全球首款45 nm全功能153 Mb SRAM芯片。英特尔将投资90亿美元在以下4座45 nm、300 mm晶圆厂量产45 nm MPU：(1)美国俄勒冈州Fab PID厂，2007年下半年量产；(2)美国亚利桑那州Fab 32厂，投资30亿美元，2007年末量产；(3)以色列Fab 28厂，投资35亿美元，2008年上半年量产；(4)美国新墨西哥州RioRancho Fab 11X厂，投资10～15亿美元，从90 nm过渡至45 nm，它是英特尔产首座300 mm晶圆厂，也是英特尔首座全自动化300 mm晶圆高量产厂。45 nm芯片的即将量产意味着32 nm/22 nm工艺将提到议事日程上，英特尔将于2009年推出32nmMPU，2011年推出22 nm MPU。IBM与特许将在IBM纽约州East Fishkill 300 mm晶圆厂内联合开发32 nm bulk CMOS工艺。2007年2月美光推出25 nm NAND闪存，3年后量产25 nm闪存。目前32 nm/22 nm工艺尚处于研发阶段。
2019-07-01 07:22
本帖最后由 eehome 于 2013-1-5 09:51 编辑 BorrowLenses之前在对比测试尼康D600和佳能6D时，曾发现两台相机的曝光结果相差约2档，并做出“是6D出了
2012-12-10 10:53
本人新手，在学习for循环时遇到这样的问题： 第一次运行时该程序的最终值为5，第二次运行该程序时，5成为了初值，并且得到了最终结果10.请问：像这样的运行结果，labview是保存在哪里的？又当如何调用和清除呢？
2016-09-08 11:20
下来。结果是实验室之前根本就没做过器件方面的工作，相关方面也没有人有任何经验，只能我自己去摸索去学习，但一学期下来也没有什么头绪（学校里到是有光刻等器件制作平台可以随时预约使用），上学期也被老师说在混
2018-02-27 15:47
太阳能电池薄膜激光刻蚀机配了台特域冷水机，用的是什么制冷机？
2017-11-25 14:30
Zdiff公式中z0以及最终结果为负数？两个问题，z0是单端阻抗吗？耦合系数k为何大于1
2017-10-10 17:22
光刻胶也称为光致抗蚀剂，是一种光敏材料，它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过曝光后，受到光照的
2019-11-07 09:00
): Tri-state node(s) do not directly drive top-level pin(s)。可以忽略吗？会不会影响最终结果。谢谢各位。
2021-04-06 15:34
本帖最后由 eehome 于 2013-1-5 09:50 编辑 尼康公司在昨天发布确认信息，全新的数码单反新品D5200将在12月15日在日本地区上市。其中单机身官方指导价格为90000日元
2012-12-11 16:35
请教开关电源输入DC12V，输出AC220V，功率30W的电路设计？这个电路需要用Multisim仿真最终结果，各位前辈，请指教。
2016-10-13 10:46
