最近更新了一下PDK文件，发现用的新的文件仿真以前做的一些模块，一些指标都变了对里面的MOS管进行仿真，发现老工艺库的单管本证增益比新工艺库的还要高。这是什么情况有人遇到过这样的问题吗
2021-06-25 06:47
7nm新工艺的加持：RX 5500 XT可轻轻松松突破2GHz
2021-06-26 07:05
翁寿松(无锡市罗特电子有限公司，江苏无锡214001)1 32 nm/22 nm工艺进展2006年1月英特尔推出全球首款45 nm全功能153 Mb SRAM芯片。英特尔将投资90亿美元在以下4座
2019-07-01 07:22
突破性的印刷质量:实现真正意义的数字印刷,彻底取代丝网印刷,旧工艺只能由网点进行过渡,无法实现多色彩混色效果;新工艺可达到令人惊异的均匀雾状过渡,高精度多色彩混色效果,您在各类广告,画报,照片上看到过
2011-03-11 13:42
FPGA在系统中表现出的特性是由芯片制造的半导体工艺决定的，当然它们之间的关系比较复杂。过去，在每一节点会改进工艺的各个方面，每一新器件的最佳工艺选择是尺寸最小的最新工艺
2019-09-17 07:40
晶体管管芯的工艺流程？光刻的工艺流程？pcb制版工艺流程？薄膜制备工艺流程？求大佬解答
2019-05-26 21:16
XX nm制造工艺是什么概念？为什么说7nm是物理极限？
2021-10-20 07:15
喷胶机是现代光电子产业中光刻胶涂布的重要设备。可对不同尺寸和形状的基片进行涂胶，最大涂胶尺寸达8寸，得到厚度均匀的光刻胶层，同时可对大深宽比结构的侧壁进行均匀涂胶；通过计算机系统控制器进行
2020-03-23 09:00
的生产厂家并不多，在２８纳米以上线宽的时代，日本的佳能和尼康都能制造（对，就是造单反相机的那个佳能和尼康），但是ＩＣ制程工艺进步到十几纳米以下时，佳能和尼康就落后了，基
2018-06-13 14:40
光刻胶也称为光致抗蚀剂，是一种光敏材料，它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过曝光后，受到光照的
2019-11-07 09:00
