的不断提升，光刻机缩激光波长也在不断的缩小，从436nm、365nm的近紫外（NUV）激光进入到246nm、193nm的
2020-07-07 14:22
来源：IT之家，谢谢 编辑：感知芯视界 Link 据外媒报道，俄罗斯首台光刻机已经制造完成并正在进行测试。俄罗斯联邦工业和贸易部副部长Vasily Shpak表示，该设备可确保生产350纳米工艺
2024-05-28 09:13
的要求则反过来，我们要确保影像要绝对清晰，就要将对焦点落在光阻上，并且确保光阻绝对不可落到景深范围之外。那ASML的光刻机景深有多大呢？ 所以我们就是要把光阻移到这个100nm的范围之内，是不是有点
2020-09-02 17:38
的一部分，目前正在对其进行测试，该设备可确保生产350nm的芯片。什帕克还指出，到2026年将获得130nm的国产光刻机，下一步将是开发90nm
2024-05-28 15:47
光刻机和euv光刻机区别是是什么呢？ duv光刻机和euv光刻机区别 1.基本上duv只能做到25nm，而euv能够做到
2022-07-10 14:53
EUV主要用于7nm及以下制程的芯片制造，光刻机作为集成电路制造中最关键的设备，对芯片制作工艺有着决定性的影响，被誉为“超精密制造技术皇冠上的明珠”，根据之前中芯国际的公报，目...
2021-07-29 09:36
尽管ASML作为目前占据主导地位的光刻机厂商，凭借独有的EUV光刻机一骑绝尘，主导着半数以上的市场份额，但这并不代表着其他光刻机厂商也就“听天由命”了。以两大国外光刻机
2022-11-24 01:57
本文主要介绍光刻机的分类与原理。 光刻机分类 光刻机的分类方式很多。按半导体制造工序分类，光刻设备有前道和后道之分。前道光刻
2025-01-16 09:29
厂商尼康和佳能为例，他们就仍在坚持开发并扩展自己的光刻机业务。 尼康 尼康的光刻机产品阵容比较全面，包括ArF浸没式扫描
2022-11-24 07:10
光刻机是制作芯片并不可少的重要工具，大家都知道，光刻机技术几乎被荷兰ASML所垄断，那么全球最先进的光刻机是多少nm的？中国现在又能够做出几
2022-07-06 10:07
