高度洁净的硅片是光伏电池与集成电路生产过程中的基本要求，其洁净度直接影响产品的最终性能、效率以及稳定性。硅片是由硅棒上切割所得，其表面的多层晶格处于被破坏的状态，布满了不饱和的悬挂键，而悬挂键的活性较高，极易吸附杂质粒子，从而导致硅片表面被污染且性能变差，比如颗粒杂质会导致硅片的介电强度降低，金属离子会增大光伏电池P-N结的反向漏电流和降低少子的寿命等。当前越来越多的新材料被广泛使用至光伏/半导体制造工艺的不同环节中，这可能会带来更多新材料成分的纳米颗粒潜在污染，亟需对硅片表面纳米颗粒进行尺寸和数量的表征。
2024-01-11 11:29
电感耦合等离子体质谱(inductively coupled plasma mass spectrometry, ICP-MS)ICP-MS是利用电感耦合等离子体作为离子源的一种元素质谱分析方法;该离子源产生的样品离子经质谱的质量分析器和检测器后得到质谱。
2022-09-29 10:44
ICP（Iterative Closest Point迭代最近点）算法是一种基于轮廓特征或点集对点集的点配准方法如下图 这里有两个点集，红色部分和蓝色部分。ICP算法就是计算怎么把PB平移旋转，使PB和PR尽量重叠，并建立模型。
2017-11-16 16:58
ICP-RIE全称是电感耦合等离子体刻蚀机，是半导体芯片微纳加工过程中必不可少的设备，可加工微米级纳米级的微型图案。
2024-04-30 12:43
早先对于晶圆表面金属的浓度检测需求为1010atoms/cm2，随着工艺演进，侦测极限已降至108 atoms/cm2，可以满足此分析需求的技术以全反射式荧光光谱仪(Total Reflection X-ray Fluorescence, TXRF)与感应耦合电浆质谱仪 (ICP-MS) 两种为主
2023-05-24 14:55
为了将硅晶片中设备激活区的金属杂质分析为ICP-MS或GE\AS，利用HF和HNQ混酸对硅晶片进行不同厚度的重复蚀刻，在晶片内表面附近，研究了定量分析特定区域中消除金属杂质的方法。
2022-04-24 14:59
ms2130和ms2131都是华为公司推出的移动宽带设备，主要用于家庭、办公室等场所的无线上网。但是，它们之间还是存在一些区别的。 首先，从外观上来说，ms2130和ms
2024-01-05 17:51
ICONICRF公司的ICP1543是一款采用裸芯片形式的三级单片微波集成电路（MMIC）功率放大器，采用碳化硅基氮化镓（GaN on SiC）技术制造。ICP1543的工作频率范围为12
2025-04-22 18:04
