光刻机完成的。而台积电没有使用EUV光刻机的７纳米工艺要到今年底才能量产，英特尔会更晚些。使用EUV光刻机未来可升级到更先进的5纳米制程。这样看来，中国的ＩＣ制程技术比
2018-06-13 14:40
太阳能电池薄膜激光刻蚀机配了台特域冷水机，用的是什么制冷机？
2017-11-25 14:30
翁寿松(无锡市罗特电子有限公司，江苏无锡214001)1 32 nm/22 nm工艺进展2006年1月英特尔推出全球首款45 nm全功能153 Mb SRAM芯片。英特尔将投资90亿美元在以下4座45 nm、300 mm晶圆厂量产45 nm MPU：(1)美国俄勒冈州Fab PID厂，2007年下半年量产；(2)美国亚利桑那州Fab 32厂，投资30亿美元，2007年末量产；(3)以色列Fab 28厂，投资35亿美元，2008年上半年量产；(4)美国新墨西哥州RioRancho Fab 11X厂，投资10～15亿美元，从90 nm过渡至45 nm，它是英特尔产首座300 mm晶圆厂，也是英特尔首座全自动化300 mm晶圆高量产厂。45 nm芯片的即将量产意味着32 nm/22 nm工艺将提到议事日程上，英特尔将于2009年推出32nmMPU，2011年推出22 nm MPU。IBM与特许将在IBM纽约州East Fishkill 300 mm晶圆厂内联合开发32 nm bulk CMOS工艺。2007年2月美光推出25 nm NAND闪存，3年后量产25 nm闪存。目前32 nm/22 nm工艺尚处于研发阶段。
2019-07-01 07:22
日子，没有什么东西是学不会的。想请问一下大家，有什么相关的书籍或资料可以让我学习的吗？或者哪个大神能加个qq指点下我就更好了，如果有所帮助的话肯定有红包感谢，万分感谢论坛的大家！
2018-02-27 15:47
芯片是怎样制造出来的？有哪些过程呢？
2021-10-25 08:52
一直觉得学习单片是知道功能以后对它进行编程。现在想跟大家交流一个单片机是怎样造出来的，芯片里面都有些什么？我只懂逻辑门电路，做数电实验也都是并行输入，不像单片机程序是串行进入内部的，觉得单片
2012-03-05 20:26
光刻胶也称为光致抗蚀剂，是一种光敏材料，它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过曝光后，受到光照的
2019-11-07 09:00
2023 年 RISC-V 中国峰会上，倪光南院士表示，“RISC-V 的未来在中国，而中国半导体芯片产业也需要 RISC-V，开源的 RISC-V 已成为中国业界最受
2023-08-26 14:16
喷胶机是现代光电子产业中光刻胶涂布的重要设备。可对不同尺寸和形状的基片进行涂胶，最大涂胶尺寸达8寸，得到厚度均匀的光刻胶层，同时可对大深宽比结构的侧壁进行均匀涂胶；通过计算机系统控制器进行工艺参数的编辑和操作。
2020-03-23 09:00
2023中国（青岛）国际太阳能光伏及储能展览会2023China(Qingdao) International Solar Photovoltaic and Photovoltaic Energy
2023-04-08 10:36
