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  • 光刻机工艺的原理及设备

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    2020-07-07 14:22

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    2018-09-03 16:48

  • 大陆{:3:}

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    2012-04-20 14:09

  • 三种常见的光刻技术方法

    是分步投影光刻机.利用分步投影光刻机,再结合移相掩膜等技术,已经得到了最小线宽0.10微米的图形。 ◆接近式暴光与接触式暴光相似,只是在暴光时硅片和掩膜版之间保留有很小的间隙,这个间隙一般在10~25

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    2012-07-28 16:26