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  • SiC外延工艺基本介绍

    外延层是在晶圆的基础上,经过外延工艺生长出特定单晶薄膜,衬底晶圆和外延薄膜合称外延片。其中在导电型碳化硅衬底上生长碳化硅外延

    2023-05-31 09:27

  • 应力消除外延生长装置及外延生长方法

    引言 在半导体材料领域,碳化硅(SiC)因其出色的物理和化学特性,如高硬度、高热导率、高击穿电场强度等,成为制造高功率、高频电子器件的理想材料。然而,在大尺寸SiC外延生长过程中,衬底应力问题一直是

    2025-02-08 09:45 广州万智光学技术有限公司 企业号

  • 异质外延对衬底的要求是什么?

    异质外延是一种先进的晶体生长技术,它指的是在一个特定的衬底材料上生长出与衬底材料具有不同晶体结构或化学组成的薄膜或外延层的过程,即:在一种材料的基片上生长出另一种材料。

    2024-04-17 09:39

  • 什么是外延工艺?什么是单晶与多晶?哪些地方会涉及到外延工艺?

    外延工艺的介绍,单晶和多晶以及外延生长的方法介绍。

    2023-11-30 18:18

  • 分子束外延(MBE)工艺及设备原理介绍

    分子束外延(Molecular beam epitaxy,MBE)是一种在超高真空状态下,进行材料外延技术,下图为分子束外延的核心组成,包括受热的衬底和释放到衬底上的多种元素的分子束。

    2024-01-15 18:12

  • 半导体衬底和外延的区别分析

    作为半导体单晶材料制成的晶圆片,它既可以直接进入晶圆制造流程,用于生产半导体器件;也可通过外延工艺加工,产出外延片。

    2024-04-24 12:26

  • SiC外延片制备技术解析

    碳化硅功率器件与传统硅功率器件制作工艺不同,不能直接制作在碳化硅单晶材料上,必须在导通型单晶衬底上额外生长高质量的外延材料,并在外延层上制造各类器件。

    2023-08-15 14:43

  • GaN外延生长方法及生长模式

    由于GaN在高温生长时N的离解压很高,很难得到大尺寸的GaN单晶材料,因此,为了实现低成本、高效、高功率的GaN HEMTs器件,研究人员经过几十年的不断研究,并不断尝试利用不同的外延生长方法在Si

    2023-06-10 09:43

  • 三种碳化硅外延生长炉的差异

    碳化硅衬底有诸多缺陷无法直接加工,需要在其上经过外延工艺生长出特定单晶薄膜才能制作芯片晶圆,这层薄膜便是外延层。几乎所有的碳化硅器件均在外延材料上实现,高质量的碳化硅同质外延

    2023-12-15 09:45

  • SiC外延层的缺陷控制研究

    探索SiC外延层的掺杂浓度控制与缺陷控制,揭示其在高性能半导体器件中的关键作用。

    2024-01-08 09:35