非光刻图案化方法可以从图案设计的自由度上分为三大类，第一类能够自由形成任意图案，主要包括扫描探针刻印（SPL）和喷墨打印；第二类需要在模板或预图案化基材的辅助下形成复杂
2023-06-21 15:49
在芯片制造中，光刻技术在硅片上刻出纳米级的电路图案。然而，当制程进入7纳米以下，传统光刻的分辨率已逼近物理极限。这时， 自对准双重图案化（SADP） 的技术登上舞台， 氧化物间隔层切割掩膜 ，确保数十亿晶体管的精确成型。
2025-05-28 16:45
图案化工艺包括曝光(Exposure)、显影(Develope)、刻蚀(Etching)和离子注入等流程。其中，刻蚀工艺是光刻(Photo)工艺的下一步，用于去除光刻胶(Photo Resist
2023-06-26 09:20
两侧（或多侧）电源线路，若两侧（或多侧）均重合成功，则线路重合成功次数为1。若一侧拒合（或重合不成功），则线路重合成功次数为0。
2021-05-04 15:03
为履行向市场提供更环保的产品的使命，TDK矢志创新并开发了一种能在薄膜上印刷厚铜图案的电镀工艺。该工艺能让铜沉积在薄膜的一侧或两侧，可降低线圈（天线）的直流电阻 (DCR)。这一创新成果是TDK结合
2025-02-12 14:43
如果你对自己的电脑里装了什么心里很有数的话，是可以尝试手动清理的。CleanMyMac 虽然能够清理掉很多这里的缓存，但是会有不少漏网之鱼。我删掉了五六个还蛮大的文件夹，但是并没有哪个文件夹能大到占 200G。
2018-03-31 08:39
程序）、PDA（个人数字助理）、数码相机中保存资料等。本文将探讨FLASH存储器的读写原理及次数。 FLASH存储器的读写原理 FLASH存储器的基本单元电路，与EEPROM类似，也是由双层浮空栅MOS管组成。但是第一层栅介质很薄，作为隧道氧化层。写入方法与EEPRO
2017-10-13 16:34
精确地用光致抗蚀剂图案化，并且能够承受图案被转移到Pt中，然后去除Cr掩模，只需要标准化学品和洁净室设备/工具，在王水蚀刻之前，铂上的任何表面钝化都需要去除，这通常通过在稀氢氟酸(HF)中快速浸泡来实现
2022-05-30 15:29
激光直写技术作为一种新兴的微纳加工方式，直接将激光聚焦到基底表面。通过激光自身或载物台的移动，无需制造光掩模就可以在基底上绘制图案。因此，通过发展代替新型激光直写技术，可以快速且低成本地实现微流控结构图案的制作。
2022-09-15 09:41
