将在IBM纽约州East Fishkill 300 mm晶圆厂内联合开发32 nm bulk CMOS工艺。2007年2月美光推出25 nm NAND闪存，3年后量产25 nm闪存。目前32 nm/22 nm工艺尚处于研发阶段。
2019-07-01 07:22
光刻胶也称为光致抗蚀剂，是一种光敏材料，它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过曝光后，受到光照的
2019-11-07 09:00
本人某985电子学院研一学生，我们导师在我刚来的时候就把一个课题给我去做，前期的材料与薄膜学长学姐们已经完成了，让我解决后期的光刻与器件制备等问题。本来我觉得是一个很好的锻炼自己的机会，就直接答应了
2018-02-27 15:47
光刻机完成的。而台积电没有使用EUV光刻机的７纳米工艺要到今年底才能量产，英特尔会更晚些。使用EUV光刻机未来可升级到更
2018-06-13 14:40
太阳能电池薄膜激光刻蚀机配了台特域冷水机，用的是什么制冷机？
2017-11-25 14:30
各位，我们公司最近打算请EMC培训机构，到公司给做EMC方面的内训。但是本人不太了解这方面，请帮忙推荐一下那家机构实力比较强？谢谢
2014-05-15 11:55
请各位大神帮忙，对于这方面不是很懂，而且着急找关于这方面资料。国外最新的数字电源类型，哪家公司研发的？和国内最新的研究？
2017-01-04 11:04
，国内目前从事EDA研发的工程师（不包括外资在华研发人员）大约有500人左右，如果按照IC产业研发人员与EDA产业研发人
2018-09-09 09:51
有嵌入式硬盘录像机、音视频编解码器、视频服务器和光端机等等，至今已投入数百万自有资金研发基于ARM和DSP双架构的监控系统。 公司销售遍布海内外，分国内销售部和国外销售部。产品广泛适用于公安、金融
2014-02-17 16:20
打算做个产品，找了几个研发人员交流了一下，研发成本有点高，周期比较长，现在想到了抄板和程序破解，然后再做些修改，请问这样做除了不道德，还有什么风险或弊端吗
2016-03-11 13:56
