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  • 光刻机工艺的原理及设备

    实际过程肯定没这么简单,上图是ASML典型的沉浸式步进扫描光刻机为例来看下光刻机是怎么工作的——首先是激光器发光,经过矫正、能量控制器、光束成型装置等之后进入光掩膜台,上面放的就设计公司做好的光掩膜

    2020-07-07 14:22

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    2020-09-02 17:38

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    2021-08-31 08:30

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    2021-07-29 09:36

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    2021-07-28 08:33

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    ,荷兰阿斯麦公司(ASML)横扫天下,谁先买到阿斯麦的光刻机,谁就能率先具备7nm工艺。国内单片机芯片:封测芯片做好后,得从晶圆上切下来,接上导线,装上外壳,顺便还得测试,这就叫封测。

    2018-09-03 16:48

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    2020-06-10 19:23

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    2014-11-05 18:00

  • 三种常见的光刻技术方法

    是分步投影光刻机.利用分步投影光刻机,再结合移相掩膜等技术,已经得到了最小线宽0.10微米的图形。 ◆接近式暴光与接触式暴光相似,只是在暴光时硅片和掩膜版之间保留有很小的间隙,这个间隙一般在10~25

    2012-01-12 10:56