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  • 193 nm ArF浸没式光刻技术和EUV光刻技术

    将在IBM纽约州East Fishkill 300 mm晶圆厂内联合开发32 nm bulk CMOS工艺。2007年2月美光推出25 nm NAND闪存,3年后量产25 nm闪存。目前32 nm/22 nm工艺尚处于研发阶段。

    2019-07-01 07:22

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    2018-06-13 14:40

  • 集成电路自主研发的关键:国产EDA软件的突破?

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    2018-09-09 09:51

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    (688002 )国内领先的红外成像解决方案供应商主营业务:专注红外成像领域的技术研发和产品设计,是一家专业从事非制冷红外热成像与MEMS传感技术开发的集成电路芯片企业,致力于专用集成电路、MEMS传感器

    2019-07-25 16:25

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    光刻胶也称为光致抗蚀剂,是一种光敏材料,它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过曝光后,受到光照的

    2019-11-07 09:00

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    2018-03-21 20:43

  • 做zigbee的生产测试时不知道哪些性能指标是生产必测项?

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    2015-05-15 21:48

  • 求介绍平板电脑电路板设计生产企业

    求介绍平板电脑电路板设计生产企业。。求介绍平板电脑电路板设计生产企业。。谢谢各位大大。。。。

    2014-01-03 18:18

  • 高频微波印制板生产中应该注意什么事项?

    板的需求量增加。印制板生产企业的很多老总,都看好这一增长点,但如何做好高频微波板,企业必须练好内功。 那么在生产中,高频微波板

    2019-07-30 08:17

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    2019-05-30 07:34