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  • 光刻机工艺的原理及设备

    是0.33,大家可能还记得之前有过一个新闻,就是ASML投入20亿美元入股卡尔·蔡司公司,双方将合作研发新的EUV光刻机,许多人不知道EUV光刻机跟蔡司有什么关系,现在应该明白了,ASML跟蔡司合作

    2020-07-07 14:22

  • 魂迁光刻,梦绕芯片,中芯国际终获ASML大型光刻机 精选资料分享

    据羊城晚报报道,近日中芯国际从荷兰进口的一台大型光刻机,顺利通过深圳出口加工区场站两道闸口进入厂区,中芯国际发表公告称该光刻机并非此前盛传的EUV光刻机,主要用于企业

    2021-07-29 09:36

  • 光刻机是干什么用的

    光刻机本身的原理,其实和相机非常相似,同学们可以把光刻机就想成是一台巨大的单反相机。相机的原理,是被摄物体被光线照射所反射的光线,透过相机的镜头,将影像投射并聚焦在相机的底片(感光元件)上,如此便可

    2020-09-02 17:38

  • 如果国家以两弹一星的精神投入光刻机

    如果国家以两弹一星的精神投入光刻机研发制造,结果会怎样?

    2020-06-10 19:23

  • 国内企业级固态硬盘生产研发企业招聘

    国内企业级固态硬盘生产企业,目前已经完成C轮融资,现招聘嵌入式固件研发工程师,坐标北京、上海。职位描述:1、 负责公司存

    2015-11-17 10:36

  • 国内单片不断实现突破,国内单片的发展现状

    芯片任重而道远。2.国内单片机芯片:晶圆硅提纯时需要旋转,然后进行切割成晶圆。晶圆加工的过程有点繁琐。首先在晶圆上涂一层感光材料(见光融化),光刻机提供精准的光线,在感光材料上刻出图案,让底下的晶圆裸露出

    2018-09-03 16:48

  • 电子直写光刻机驻极体圆筒聚焦电极

    电子直写光刻机驻极体圆筒聚焦电极 随着科技进步,对电子显微镜的精度要求越来越高。电子直写光刻机的精度与电子波长和电子束聚焦后的焦点直径有关,电子波长可通过增加加速电极电压来减小波长,而电子束聚焦后

    2025-05-07 06:03

  • 三种常见的光刻技术方法

    微米之间,此间隙可以大大减少对掩膜版的损伤.接近式暴光的分辨率较低,一般在2~4微米之间,因此接近式光刻机只能装配在特征尺寸交大的集成电路生产线中.接触或接近式光刻机的主要优点是

    2012-01-12 10:56

  • 看过以后会有收获

    本帖最后由 pyzwle1982 于 2016-5-9 10:00 编辑 我公司是集半导体微电子新材料高端工艺设备研发生产销售于一体的高科技企业具体包括:自主研发设备砷化镓多晶合成配套设备

    2016-05-05 09:51

  • 半导体制造企业未来分析

    ,ASML还预计2020年,公司将交付35台EUV光刻机,2021年则会达到45台到50台的交付量,是2019年的两倍左右。 除了光刻机外,其他如刻蚀等设备购买、工艺研发

    2020-02-27 10:42