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  • 193 nm ArF浸没式光刻技术和EUV光刻技术

    翁寿松(无锡市罗特电子有限公司,江苏无锡214001)1 32 nm/22 nm工艺进展2006年1月英特尔推出全球首款45 nm全功能153 Mb SRAM芯片。英特尔将投资90亿美元在以下4座45 nm、300 mm晶圆厂量产45 nm MPU:(1)美国俄勒冈州Fab PID厂,2007年下半年量产;(2)美国亚利桑那州Fab 32厂,投资30亿美元,2007年末量产;(3)以色列Fab 28厂,投资35亿美元,2008年上半年量产;(4)美国新墨西哥州RioRancho Fab 11X厂,投资10~15亿美元,从90 nm过渡至45 nm,它是英特尔产首座300 mm晶圆厂,也是英特尔首座全自动化300 mm晶圆高量产厂。45 nm芯片的即将量产意味着32 nm/22 nm工艺将提到议事日程上,英特尔将于2009年推出32nmMPU,2011年推出22 nm MPU。IBM与特许将在IBM纽约州East Fishkill 300 mm晶圆厂内联合开发32 nm bulk CMOS工艺。2007年2月美光推出25 nm NAND闪存,3年后量产25 nm闪存。目前32 nm/22 nm工艺尚处于研发阶段。

    2019-07-01 07:22

  • 我所了解的中国电子元器件行业

    有禁运的指示,那么,到底禁运不禁运?这个问题得这么看:ASML每年光刻机的产量只有不多的几十台,每台卖一亿多美元,只能优先供应它的主要股东,对,就那三个最先进的IC厂家:三星、台积电、英特尔,中国企业

    2018-06-13 14:40

  • 求助论坛的半导体工艺大神们,一个电子系研究生求助

    本人某985电子学院研一学生,我们导师在我刚来的时候就把一个课题给我去做,前期的材料与薄膜学长学姐们已经完成了,让我解决后期的光刻与器件制备等问题。本来我觉得是一个很好的锻炼自己的机会,就直接答应了

    2018-02-27 15:47

  • 太阳能电池薄膜激光刻配了台特域冷水,用的是什么制冷

    太阳能电池薄膜激光刻配了台特域冷水,用的是什么制冷

    2017-11-25 14:30

  • 光刻胶有什么分类?生产流程是什么?

    光刻胶也称为光致抗蚀剂,是一种光敏材料,它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过曝光后,受到光照的

    2019-11-07 09:00

  • 关于Cogobuy商城的介绍

    货真价实的IC元器件产品,通过安全快捷的在线交易平台帮助企业提高采购效率,降低企业的制造成本,从而提高企业的综合竞争力。Cogo商城通过整合供应资源,深度解析

    2012-03-13 16:57

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    2012-03-13 16:51

  • 有没有看国内机器人知名企业的算法专家?

    国内首屈一指的机器人公司招聘算法专家,(导航、视觉、控制算法都有需求)控制算法需要有双足机器人的项目经验。硕士生要求5年以上工作经验,博士生3年以上工作经验即可。无论是企业内的专家,还是在高校搞研究

    2020-07-03 18:15

  • RFID和物流信息化

    成为体系,实现资源共享,提高整体效益。2007年前三个季度,国际物流业的并购金额达700亿美金; 国内物流整合冲破2%份额大限。当前我国的物流信息化处在这样的大量整合的阶段,

    2019-07-15 08:29

  • 喷胶有什么典型应用 ?

    喷胶是现代光电子产业中光刻胶涂布的重要设备。可对不同尺寸和形状的基片进行涂胶,最大涂胶尺寸达8寸,得到厚度均匀的光刻胶层,同时可对大深宽比结构的侧壁进行均匀涂胶;通过计算机系统控制器进行工艺参数的编辑和操作。

    2020-03-23 09:00