EUV主要用于7nm及以下制程的芯片制造，光刻机作为集成电路制造中最关键的设备，对芯片制作工艺有着决定性的影响，被誉为“超精密制
2021-07-29 09:36
从7nm到5nm，半导体制程芯片的制造工艺常常用XXnm来表示，比如Intel最新的六代酷睿系列CPU就采用Intel自家的14nm++
2021-07-29 07:19
适用了20余年的摩尔定律近年逐渐有了失灵的迹象。从芯片的制造来看，7nm就是硅材料芯片的物理极限。不过据外媒报道，劳伦斯伯克利国家实验室的一个团队打破了物理极限，采用碳纳米管复合材料将现有最精尖
2021-07-28 07:55
45-50台的交付量。这其中很大一部分都供给了台积电，用于扩充5nm，以及7nm产能。中微半导体除光刻机之外，蚀刻机也是5nm
2020-03-09 10:13
• 在设计人员的推动下，加快部署7nm Fusion Design Platform，在具有挑战性的设计方面，不仅设计实现质量提升了20%，设计收敛速度也提高了两倍多。• Fusion Design
2020-10-22 09:40
们的投入中，80%的开支会用于先进产能扩增，包括7nm、5nm及3nm，另外20%主要用于先进封装及特殊制程。而先进工艺中所用到的EUV极紫外光刻机，一台设备的单价就可
2020-02-27 10:42
和荷兰学习交流，学他的技术，当然要付出代价，比如财富和他想要的东西，真诚相待，会成功的，还可以引进的的人才和技术，在和他学艺，联姻，总之就是把技术学到手。
2022-11-20 08:48
，购买或者开发EUV光刻机是否必要？中国应如何切实推进半导体设备产业的发展？EUV面向7nm和5nm节点所谓极紫外光刻，是一种应用于现代集成电路
2017-11-14 16:24
前言有时候我们都不会把PID三个控制都用上，可能之后用其中的P、PI或PD控制。P控制就不用说了，什么时候都能用，只是性能的问题。本文将基于平衡小车分析什么时候使用PI和PD控制器。
2021-09-07 08:30
什么时候该使用OS？前面我们介绍了嵌入式基于OS的软件设计和基于前后台系统的软件设计，那麽在什么情况下需要使用OS呢？我发现有好多开发人员把OS用于项目的开发，都有一种心态，似乎他们的系统只有使用过
2021-12-16 06:55
