将在IBM纽约州East Fishkill 300 mm晶圆厂内联合开发32 nm bulk CMOS工艺。2007年2月美光推出25 nm NAND闪存，3年后量产25 nm闪存。目前32 nm/22 nm工艺尚处于研发阶段。
2019-07-01 07:22
，国内目前从事EDA研发的工程师（不包括外资在华研发人员）大约有500人左右，如果按照IC产业研发人员与EDA产业研发人
2018-09-09 09:51
光刻胶也称为光致抗蚀剂，是一种光敏材料，它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过曝光后，受到光照的
2019-11-07 09:00
光刻机完成的。而台积电没有使用EUV光刻机的７纳米工艺要到今年底才能量产，英特尔会更晚些。使用EUV光刻机未来可升级到更
2018-06-13 14:40
太阳能电池薄膜激光刻蚀机配了台特域冷水机，用的是什么制冷机？
2017-11-25 14:30
有没有大神了解，国产77G雷达的情况，有媒体披露有几家研发出来的，不知道是样机阶段还是能量产？目前难点是在工艺吗？国产进度最领先是哪家呀？国产替代的逻辑是什么？便宜还是
2019-02-14 11:50
有国产单片机吗？
2015-07-13 17:11
各位, 我们公司是一家跨境B2C公司，在音频类产品已经有自己的客户基础与销售量。现在需要招我们一起研发新产品的技术工程师。但不知道在哪里招人最好，跟大家请教一下。我们公司立志做中国产品，打造自己
2017-05-08 17:18
成熟销售团队，多个成功经验，研发团队组建设***中，1、***嵌入式软件工程师（医疗美容可穿戴产品） 2、***硬件/电子电路设计工程师（医疗美容可穿戴产品） 坐标：上海成熟项目规划，
2019-04-27 16:34
芯片是怎么产生技术
2019-05-09 02:46
