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  • 193 nm ArF浸没式光刻技术和EUV光刻技术

    翁寿松(无锡市罗特电子有限公司,江苏无锡214001)1 32 nm/22 nm工艺进展2006年1月英特尔推出全球首款45 nm全功能153 Mb SRAM芯片。英特尔将投资90亿美元在以下4座45 nm、300 mm晶圆厂量产45 nm MPU:(1)美国俄勒冈州Fab PID厂,2007年下半年量产;(2)美国亚利桑那州Fab 32厂,投资30亿美元,2007年末量产;(3)以色列Fab 28厂,投资35亿美元,2008年上半年量产;(4)美国新墨西哥州RioRancho Fab 11X厂,投资10~15亿美元,从90 nm过渡至45 nm,它是英特尔产首座300 mm晶圆厂,也是英特尔首座全自动化300 mm晶圆高量产厂。45 nm芯片的即将量产意味着32 nm/22 nm工艺将提到议事日程上,英特尔将于2009年推出32nmMPU,2011年推出22 nm MPU。IBM与特许将在IBM纽约州East Fishkill 300 mm晶圆厂内联合开发32 nm bulk CMOS工艺。2007年2月美光推出25 nm NAND闪存,3年后量产25 nm闪存。目前32 nm/22 nm工艺尚处于研发阶段。

    2019-07-01 07:22

  • 太阳能电池薄膜激光刻配了台特域冷水的是什么制冷

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    2017-11-25 14:30

  • 多适配国产CPU到鸿蒙不香吗?

    1、落后就要挨打,没有就会受限。2、HM出来了,多适配国产CPU吧,尽快推广应用。3、软硬件先别着急挣钱,憋着一口气先往前赶赶。4、利用国人对HM的喜爱着急挣钱的类似汉奸,大义散财推广国产软硬件的真乃民族英雄

    2020-09-16 15:08

  • 国产单片吗?

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    2015-07-13 17:11

  • 光刻胶有什么分类?生产流程是什么?

    光刻胶也称为光致抗蚀剂,是一种光敏材料,它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过曝光后,受到光照的

    2019-11-07 09:00

  • CPU是如何设计出来的

    芯片是如何制造的?CPU是如何设计出来的?

    2021-11-01 06:39

  • 论坛的各位的单片都是这么高大上的吗?有人能聊聊国产的MCU吗

    新人入行,在公司开发的智能充电器,,只用到一些8位的8脚的MCU,,的是PIC的单片,样品做出来了,但PIC的是在太贵,想找国产的替代,奈何网络上的资料是在太少了,,跪求各位推荐,,有人用过:义隆,远翔飞凌,松翰

    2015-12-25 16:14

  • 请问CH374spi接口接CPU,能否实现鼠标键盘的透传功能?

    我们使用的CPU上没有USB接口,只有pcie,想要外接键盘和鼠标,现在又没有国产pcie转usb芯片。看到ch374这个芯片可以spi转usb,想问下ch374通过spi接

    2022-07-11 06:49

  • 我所了解的中国电子元器件行业

    光刻机完成的。而台积电没有使用EUV光刻机的7纳米工艺要到今年底才能量产,英特尔会更晚些。使用EUV光刻机未来可升级到更先进的5纳米制程。这样看来,中国的IC制程技术比世界最先进水平落后两代以上,时间上

    2018-06-13 14:40

  • 国产单片有兼容AT89S52的吗?

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    2022-02-25 10:24