，光源是ArF（氟化氩）准分子激光器，从45nm到10/7nm工艺都可以使用这种光刻机，但是到了7nm这个节点已经的DUV光刻的极限，所以Intel、三星和台积电都会在7nm这个节点引入
2020-07-07 14:22
！光刻机本身的原理，其实和相机非常相似，同学们可以把光刻机就想成是一台巨大的单反相机。相机的原理，是被摄物体被光线照射所反射的光线，透过相机的镜头，将影像投射并聚焦在相机的底片（感光元件）上，如此便可
2020-09-02 17:38
目前，光刻机主要分为EUV光刻机和DUV光刻机。DUV是深紫外线，EUV是非常深的紫外线。DUV使用的是极紫外光刻技术，
2022-07-10 14:53
本文主要介绍光刻机的分类与原理。 光刻机分类 光刻机的分类方式很多。按半导体制造工序分类，光刻设备有前道和后道之分。前道光刻
2025-01-16 09:29
ASML的极紫外光刻机（EUV），这个是当前世界顶级的光刻机设备。 在芯片加工的时候，光刻机是用一系列光源能量和形状控制
2022-07-10 11:17
光刻机的原理是接近或接触光刻，通过无限接近，将图案复制到掩模上。直写光刻是将光束聚焦到一个点上，通过移动工作台或透镜扫描实现任意图形处理。投影光刻是集成电路的主流
2022-07-10 15:28
纳米级别的分辨率。本文将详细介绍光刻机的主要组成部分及其功能。 光源系统 光源系统是光刻机的心脏，负责提供曝光所需的能量。早期的
2025-01-07 10:02
就在几天前，清华大学团队联合德国的研究机构实验证实了「稳态微聚束」(steady-state microbunching, SSMB)光源。这个光源的波长可以从太赫兹覆盖到极紫外波段，或许能成为EUV
2021-03-30 10:43
光刻机经历了5代产品发展，每次改进和创新都显著提升了光刻机所能实现的最小工艺节点。按照使用光源依次从g-line、i-line发展到KrF、ArF和EUV；按照工作原理依次从接触接近式
2024-03-21 11:31
近日，荷兰光刻机巨头阿斯麦（ASML）公司2019年的年报中披露了关于下一代EUV极紫光刻机的研发进程，预计2022年年初开始出货，2024年实现大规模生产。
2020-03-17 15:25
