，光源是ArF（氟化氩）准分子激光器，从45nm到10/7nm工艺都可以使用这种光刻机，但是到了7nm这个节点已经的DU
2020-07-07 14:22
EUV主要用于7nm及以下制程的芯片制造，光刻机作为集成电路制造中最关键的设备，对芯片制作工艺有着决定性的影响，被誉为“超精密制造技术皇冠上的明珠”，根据之前中芯国际的公报，目...
2021-07-29 09:36
的要求则反过来，我们要确保影像要绝对清晰，就要将对焦点落在光阻上，并且确保光阻绝对不可落到景深范围之外。那ASML的光刻机景深有多大呢？ 所以我们就是要把光阻移到这个100nm的范围之内，是不是有点
2020-09-02 17:38
nch_dnw，mom电容等）的工艺文档说明在哪个路径下？之前65nm的文档在/PDK_doc/TSMC_DOC_WM/model文件夹下，28nm的好像没有？
2021-06-24 06:18
从工艺选择到设计直至投产，设计人员关注的重点是以尽可能低的功耗获得最佳性能。Altera在功耗和性能上的不断创新，那其28nm高端FPGA如何实现功耗和性能的平衡？具体有何优势？
2019-09-17 08:18
1月22日，Altera 在北京展示了号称业界最全面的28nm 最新技术及强大解决方案。Altera公司的多位工程师为在京的媒体人士进行了讲解。
2019-08-21 07:37
SRAM存储单元的写裕度(WM)。同时,可以优化SRAM存储单元的抗PVT波动能力,并且可以降低SRAM存储单元的最小操作电压。 基于SMIC 28nm工艺节点仿真结果显示,新型10T单元结构在电源电压为
2020-04-01 14:32
请问工程师，C2000系列产品的制程是45nm还是28nm？同一款新片可能采用不同的制程生产吗？
2020-06-17 14:41
本资料是关于如何采用低功耗28nm降低系统总成本
2012-07-31 21:25
如果国家以两弹一星的精神投入光刻机的研发制造，结果会怎样？
2020-06-10 19:23
