翁寿松(无锡市罗特电子有限公司，江苏无锡214001)1 32 nm/22 nm工艺进展2006年1月英特尔推出全球首款45 nm全功能153 Mb SRAM芯片。英特尔将投资90亿美元在以下4座45 nm、300 mm晶圆厂量产45 nm MPU：(1)美国俄勒冈州Fab PID厂，2007年下半年量产；(2)美国亚利桑那州Fab 32厂，投资30亿美元，2007年末量产；(3)以色列Fab 28厂，投资35亿美元，2008年上半年量产；(4)美国新墨西哥州RioRancho Fab 11X厂，投资10～15亿美元，从90 nm过渡至45 nm，它是英特尔产首座300 mm晶圆厂，也是英特尔首座全自动化300 mm晶圆高量产厂。45 nm芯片的即将量产意味着32 nm/22 nm工艺将提到议事日程上，英特尔将于2009年推出32nmMPU，2011年推出22 nm MPU。IBM与特许将在IBM纽约州East Fishkill 300 mm晶圆厂内联合开发32 nm bulk CMOS工艺。2007年2月美光推出25 nm NAND闪存，3年后量产25 nm闪存。目前32 nm/22 nm工艺尚处于研发阶段。
2019-07-01 07:22
太阳能电池薄膜激光刻蚀机配了台特域冷水机，用的是什么制冷机？
2017-11-25 14:30
PCB上这种指纹的图案露铜是怎么实现的？
2025-02-10 17:52
有国产单片机吗？
2015-07-13 17:11
实现基础的软件（我后悔没有跟踪它们），并且取决于它们是否在（可能）C或Assembly中编写，它们所做的是在Assembly中实现长块的“开关盒”链或类似的东西：找到实现它的相当粗略的方法。我看不出其他的办法。我的问
2019-09-30 09:18
如何把模拟信号转换成数字信号呢？ 针对各种的 ADC 芯片，如何快速区分和了解 ADC 芯片的性能的好坏呢？ 什么是高端 ADC 芯片呢？ 国内做 ADC 的企业有哪些？ 国产 ADC 芯片产业的的现状及机遇？
2021-03-11 07:55
光刻胶也称为光致抗蚀剂，是一种光敏材料，它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过曝光后，受到光照的
2019-11-07 09:00
MS***监控摄像机镜头驱动马达芯片 国产芯片对标哪款进口产品国产芯片必须实现换道超车 才能不被其他国家牵制，这款芯片对标的是哪个进口芯片，未来能够替代哪款进口芯片？
2020-11-03 11:43
国产NSI1300D05-DSWVR放大芯片放大增益8.2或41的问题，到底是放大8。2倍还是41倍，真实无法理解，那个大神给指导下，多谢！
2025-02-16 20:24
如何使用简单的状态机仿真实现一个电机正反转？
2021-10-15 06:02
