，光源是ArF（氟化氩）准分子激光器，从45nm到10/7nm工艺都可以使用这种光刻机，但是到了7nm这个节点已经的DUV光刻的极限，所以Intel、三星和台积电都会在7nm这个节点引入极紫外光（EUV
2020-07-07 14:22
我国正加速实现中高端光刻机的国产化。近日，亦庄企业北京国望光学科技有限公司增资项目在北京产权交易所完成。通过此次增资，国望光学引入中国科学院长春光学精密机械与物理研究所和中国科学院上海光学精密机械
2019-08-12 16:22
从2009年开始算起，中国研究团队一路攻坚克难，国产首套90纳米高端光刻机已于近期第一次成功曝光。2022年左右有望完成验收。这意味着，中国半导体材料和设备（工艺技术）产业又向前跨出了关键一大步
2018-04-10 10:57
！光刻机本身的原理，其实和相机非常相似，同学们可以把光刻机就想成是一台巨大的单反相机。相机的原理，是被摄物体被光线照射所反射的光线，透过相机的镜头，将影像投射并聚焦在相机的底片（感光元件）上，如此便可
2020-09-02 17:38
本文主要介绍光刻机的分类与原理。 光刻机分类 光刻机的分类方式很多。按半导体制造工序分类，光刻设备有前道和后道之分。前道光刻
2025-01-16 09:29
目前，光刻机主要分为EUV光刻机和DUV光刻机。DUV是深紫外线，EUV是非常深的紫外线。DUV使用的是极紫外光刻技术，EUV使用的是深紫外
2022-07-10 14:53
光刻机的原理是接近或接触光刻，通过无限接近，将图案复制到掩模上。直写光刻是将光束聚焦到一个点上，通过移动工作台或透镜扫描实现任意图形处理。投影光刻是集成电路的主流
2022-07-10 15:28
中科院去年宣布进军光刻机，相信在量子芯片、光子芯片、第三代半导体等领域中国可以实现弯道超车的。
2021-01-20 16:02
ASML的极紫外光刻机（EUV），这个是当前世界顶级的光刻机设备。 在芯片加工的时候，光刻机是用一系列光源能量和形状控制手段，通过带有电路图的掩模传输光束。
2022-07-10 11:17
光刻机，是现代光学工业之花，是半导体行业中的核心技术。 可能有很多人都无法切身理解光刻机的重要地位，光刻机，是制造芯片的机器，要是没有了光刻机，我们就没有
2021-07-07 14:31
