电子发烧友

翁寿松(无锡市罗特电子有限公司，江苏无锡214001)1 32 nm/22 nm工艺进展2006年1月英特尔推出全球首款45 nm全功能153 Mb SRAM芯片。英特尔将投资90亿美元在以下4座45 nm、300 mm晶圆厂量产45 nm MPU：(1)美国俄勒冈州Fab PID厂，2007年下半年量产；(2)美国亚利桑那州Fab 32厂，投资30亿美元，2007年末量产；(3)以色列Fab 28厂，投资35亿美元，2008年上半年量产；(4)美国新墨西哥州RioRancho Fab 11X厂，投资10～15亿美元，从90 nm过渡至45 nm，它是英特尔产首座300 mm晶圆厂，也是英特尔首座全自动化300 mm晶圆高量产厂。45 nm芯片的即将量产意味着32 nm/22 nm工艺将提到议事日程上，英特尔将于2009年推出32nmMPU，2011年推出22 nm MPU。IBM与特许将在IBM纽约州East Fishkill 300 mm晶圆厂内联合开发32 nm bulk CMOS工艺。2007年2月美光推出25 nm NAND闪存，3年后量产25 nm闪存。目前32 nm/22 nm工艺尚处于研发阶段。

2019-07-01 07:22

有禁运的指示，那么，到底禁运不禁运？这个问题得这么看：ASML每年光刻机的产量只有不多的几十台，每台卖一亿多美元，只能优先供应它的主要股东，对，就那三个最先进的IC厂家：三星、台积电、英特尔，中国企业

2018-06-13 14:40

的需求。 如果国内的EDA企业不太愿意共享知识，担心企业机密外泄，而不愿意派出指导教师，该怎么办？不用担心这个问题，国内总有些企业是愿意为国产EDA的大局做贡献的。2.

2018-09-09 09:51

太阳能电池薄膜激光刻蚀机配了台特域冷水机，用的是什么制冷机？

2017-11-25 14:30

有国产单片机吗？

2015-07-13 17:11

发现国产的FPGA 芯片也是越来越多，请问国产的芯片对比国外的最大的优势是什么？

2024-05-26 20:20

光刻胶也称为光致抗蚀剂，是一种光敏材料，它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过曝光后，受到光照的

2019-11-07 09:00

依旧没有让国内厂商得到喘息。豺狼虎豹亡我之心不死，实属歹毒至极，臭不要脸。虽然目前只针对头部高新技术企业进行封锁，但此事已成国内技术发展的达摩利斯之剑，令受人爱戴的企业家们惶惶不可终日。很久之前，国产

2023-03-07 16:06

`微软近日宣布与戴尔达成一项合作协议，从下个月起，企业客户可以通过戴尔的企业销售部门购买Surface Pro平板电脑和Surface配件。这是微软与惠普、埃森哲等公司合作

2017-06-23 14:44