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  • 我国光刻机产业的市场发展现状究竟如何

    再说国产光刻机现状之前,简单地谈谈华为的麒麟处理器,这样您将能够更加深刻地体会到光刻机对于芯片生产的重要性。

    2019-11-11 17:51

  • 光刻机工艺的原理及设备

      关于光刻工艺的原理,大家可以想象一下胶片照片的冲洗,掩膜版就相当于胶片,而光刻机就是冲洗台,它把掩膜版上的芯片电路一个个的复制到光刻胶薄膜上,然后通过刻蚀技术把电路“画”在晶圆上。    当然

    2020-07-07 14:22

  • 光刻机是干什么用的

    光刻机本身的原理,其实和相机非常相似,同学们可以把光刻机就想成是一台巨大的单反相机。相机的原理,是被摄物体被光线照射所反射的光线,透过相机的镜头,将影像投射并聚焦在相机的底片(感光元件)上,如此便可

    2020-09-02 17:38

  • duv光刻机和euv光刻机区别是什么

    目前,光刻机主要分为EUV光刻机和DUV光刻机。DUV是深紫外线,EUV是非常深的紫外线。DUV使用的是极紫外光刻技术,EUV使用的是深紫外

    2022-07-10 14:53

  • 光刻机的分类与原理

    本文主要介绍光刻机的分类与原理。   光刻机分类 光刻机的分类方式很多。按半导体制造工序分类,光刻设备有前道和后道之分。前道光刻

    2025-01-16 09:29

  • 光刻机发展分析:光刻机国内外主要厂商与市场现状分析

    中国目前的光刻机技术还在起步探索阶段,虽然取得了一些小成就,但离国外先进技术差距还很大,希望通过目前科研人员的努力,能真正用上性能强,稳定性高的高端国产芯片。

    2018-06-16 14:51

  • 国产光刻机达到几纳米_中国光刻机发展

    从2009年开始算起,中国研究团队一路攻坚克难,国产首套90纳米高端光刻机已于近期第一次成功曝光。2022年左右有望完成验收。这意味着,中国半导体材料和设备(工艺技术)产业又向前跨出了关键一大步

    2018-04-10 10:57

  • 光刻技术的发展现状、趋势及挑战分析

    近两年来,芯片制造成为了半导体行业发展的焦点。芯片制造离不开光刻机,而光刻技术则是光刻机发展的重要推动力。在过去数十载的

    2020-11-27 16:03

  • 光刻机发展历程及工艺流程

    光刻机经历了5代产品发展,每次改进和创新都显著提升了光刻机所能实现的最小工艺节点。按照使用光源依次从g-line、i-line发展到KrF、ArF和EUV;按照工作原理

    2024-03-21 11:31

  • 提高光刻机性能的关键技术及光刻机发展情况

    作为光刻工艺中最重要设备之一,光刻机一次次革命性的突破,使大模集成电路制造技术飞速向前发展。了解提高光刻机性能的关键技术以及了解下一代

    2020-08-28 14:39