45 nm、300 mm晶圆厂量产45 nm MPU：(1)美国俄勒冈州Fab PID厂，2007年下半年量产；(2)美国亚利桑那州Fab 32厂，投资30亿美元，2007年末量产；(3)以色列Fab
2019-07-01 07:22
XX nm制造工艺是什么概念？为什么说7nm是物理极限？
2021-10-20 07:15
在POM板上磁控溅射下电极，再用旋涂法把PVDF油墨旋涂到下电极上，再在压电层上磁控溅射上上电极形成三明治结构，但是上下电极都是短路状态，造成短路的可能原因是什么？压电层厚度约为2nm，电极厚度约为30um。
2023-04-28 18:21
太阳能电池薄膜激光刻蚀机配了台特域冷水机，用的是什么制冷机？
2017-11-25 14:30
芯片是怎样制造出来的？有哪些过程呢？
2021-10-25 08:52
光刻胶也称为光致抗蚀剂，是一种光敏材料，它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过曝光后，受到光照的
2019-11-07 09:00
随着工艺技术向65nm以及更小尺寸的迈进，出现了两类关键的开发问题：待机功耗和开发成本。这两个问题在每一新的工艺节点上都非常突出，现在已经成为设计团队面临的主要问题，我们该怎么解决呢？
2019-08-07 07:17
本人某985电子学院研一学生，我们导师在我刚来的时候就把一个课题给我去做，前期的材料与薄膜学长学姐们已经完成了，让我解决后期的光刻与器件制备等问题。本来我觉得是一个很好的锻炼自己的机会，就直接答应了
2018-02-27 15:47
喷胶机是现代光电子产业中光刻胶涂布的重要设备。可对不同尺寸和形状的基片进行涂胶，最大涂胶尺寸达8寸，得到厚度均匀的光刻胶层，同时可对大深宽比结构的侧壁进行均匀涂胶；通过计算机系统控制器进行工艺参数的编辑和操作。
2020-03-23 09:00
目前有一个监测激光辐射的设备开发项目，需求大致是：1、能接收1064nm的激光辐射并输出模拟信号（已备好合适的高性能辐射接收器）；2、对模拟信号进行数字化采集，存储，并和设备的GPS校时信息一同无线
2016-11-07 16:40
