EUV主要用于7nm及以下制程的芯片制造,光刻机作为集成电路制造中最关键的设备,对芯片制作工艺有着决定性的影响,被誉为“超精密制造技术皇冠上的明珠”,根据之前中芯国际的公报,目...
2021-07-29 09:36
45-50台的交付量。这其中很大一部分都供给了台积电,用于扩充5nm,以及7nm
2020-03-09 10:13
的宽度,也被称为栅长。栅长越短,则可以在相同尺寸的硅片上集成更多的晶体管。目前,业内最重要的代工企业台积电、三星和GF(格罗方德),在半导体工艺的发展上越来越迅猛,10
2021-07-29 07:19
感到非常鼓舞人心。我们已与用户设计团队密切合作,设计能够在高级工艺节点上应对日益升级的技术挑战的平台。通过使用7nm Fusion Design Platform,设计团队能够显著提高生产力,增加
2020-10-22 09:40
台积电宣布5nm基本完工开始试产:面积缩小45%、性能提升15%.pdf(105.52 KB)
2019-04-24 06:00
们的投入中,80%的开支会用于先进产能扩增,包括7nm、5nm及3nm,另外20%主要用于先进封装及特殊制程。而先进工艺中所用到的EUV极紫外
2020-02-27 10:42
的晶体管制程从14nm缩减到了1nm。那么,为何说7nm就是硅材料芯片的物理极限,碳纳米管复合材料又是怎么一回事呢?面对美国的技术突破,中国应该怎么做呢?XX nm制造
2021-07-28 07:55
和荷兰学习交流,学他的技术,当然要付出代价,比如财富和他想要的东西,真诚相待,会成功的,还可以引进的的人才和技术,在和他学艺,联姻,总之就是把技术学到手。
2022-11-20 08:48
ofweek电子工程网讯 国际半导体制造龙头三星、台积电先后宣布将于2018年量产7纳米晶圆制造工艺。这一消息使得业界对
2017-11-14 16:24
半导体光刻蚀工艺
2021-02-05 09:41