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  • 光刻机工艺的原理及设备

    ,光源是ArF(氟化氩)准分子激光器,从45nm到10/7nm工艺都可以使用这种光刻机,但是到了7nm这个节点已经的DUV光刻的极限,所以Intel、三星和

    2020-07-07 14:22

  • 光刻机是干什么用的

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    2012-09-27 16:48

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    2020-03-09 10:13

  • 半导体制造企业未来分析

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  • EUV热潮不断 中国如何推进半导体设备产业发展?

    ofweek电子工程网讯 国际半导体制造龙头三星、先后宣布将于2018年量产7纳米晶圆制造工艺。这一消息使得业界对

    2017-11-14 16:24

  • 论工艺制程,Intel VS谁会赢?

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    2016-01-25 09:38

  • [转]借16nm FinFET Plus及InFO WLP 通吃英特尔苹果

    1座支持20纳米12英寸厂南科Fab14第5期已全产能投片,第2座12英寸厂Fab14第6期将在7月正式进入量产,将成为

    2014-05-07 15:30

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    如果国家以两弹一星的精神投入光刻机的研发制造,结果会怎样?

    2020-06-10 19:23