• 发文章

  • 发资料

  • 发帖

  • 提问

  • 发视频

创作活动
0
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
返回

电子发烧友 电子发烧友

  • 全文搜索
    • 全文搜索
    • 标题搜索
  • 全部时间
    • 全部时间
    • 1小时内
    • 1天内
    • 1周内
    • 1个月内
  • 默认排序
    • 默认排序
    • 按时间排序
  • 全部板块
    • 全部板块
大家还在搜
  • 光刻机工艺的原理及设备

    ,光源是ArF(氟化氩)准分子激光器,从45nm到10/7nm工艺都可以使用这种光刻机,但是到了7nm这个节点已经的DUV光刻的极限,所以Intel、三星和

    2020-07-07 14:22

  • 光刻机是干什么用的

    光刻机本身的原理,其实和相机非常相似,同学们可以光刻机就想成是一巨大的单反相机。相机的原理,是被摄物体被光线照射所反射的光线,透过相机的镜头,将影像投射并聚焦在相

    2020-09-02 17:38

  • 魂迁光刻,梦绕芯片,中芯国际终获ASML大型光刻机 精选资料分享

    据羊城晚报报道,近日中芯国际从荷兰进口的一大型光刻机,顺利通过深圳出口加工区场站两道闸口进入厂区,中芯国际发表公告称该光刻机并非此前盛传的EUV光刻机,主要用于企业复

    2021-07-29 09:36

  • 电子直写光刻机驻极体圆筒聚焦电极

    电子直写光刻机驻极体圆筒聚焦电极 随着科技进步,对电子显微镜的精度要求越来越高。电子直写光刻机的精度与电子波长和电子束聚焦后的焦点直径有关,电子波长可通过增加加速电极电压来减小波长,而电子束聚焦后

    2025-05-07 06:03

  • 如果国家以两弹一星的精神投入光刻机

    如果国家以两弹一星的精神投入光刻机的研发制造,结果会怎样?

    2020-06-10 19:23

  • 全球进入5nm时代

    半导体制造设备,涉及的厂商主要有ASML、KLA、应用材料、中微半导体等,他们供应的光刻机、蚀刻等都是制造芯片的重要设备。2019年1-11月,

    2020-03-09 10:13

  • 三种常见的光刻技术方法

    微米之间,此间隙可以大大减少对掩膜版的损伤.接近式暴光的分辨率较低,一般在2~4微米之间,因此接近式光刻机只能装配在特征尺寸交大的集成电路生产线中.接触或接近式光刻机的主要优点是生产效率较高。 ◆接触式

    2012-01-12 10:56

  • 半导体制造企业未来分析

    们的投入中,80%的开支会用于先进产能扩增,包括7nm、5nm及3nm,另外20%主要用于先进封装及特殊制程。而先进工艺中所用到的EUV极紫外光刻机,一设备的单价就可以达到1.2亿美元,可见半导体

    2020-02-27 10:42

  • 论工艺制程,Intel VS谁会赢?

    的必经前提步骤,而先进的制成工艺可以更好的提高中央处理器的性能,并降低处理器的功耗,另外还可以节省处理器的生产成本。  “芯片门”让

    2016-01-25 09:38

  • 或将“独吞”A7大单

    ` 观点:在技术领先的优势下,获得苹果iPhone5芯片追加订单已成事实。然而,在iPhone 5推出后,苹果已朝下一世代A7处理器迈进,

    2012-09-27 16:48