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型号：20 IBE-J 品牌：

因产品配置不同, 价格货期需要电议, 图片仅供参考, 一切以实际成交合同为准上海伯东日本原装进口适合大规模量产使用的离子刻蚀机Φ4 inch X 12片基片尺寸Φ4

2024-09-12 13:51 伯东企业（上海）有限公司 企业号

型号：gwlskssb 品牌：

 一、设备概述高温磷酸刻蚀设备是半导体制造中用于各向异性刻蚀的关键设备，通过高温磷酸溶液与半导体材料（如硅片、氮化硅膜）的化学反应，实现精准的材料去除。其核心优势在于纳米级

2025-06-06 14:38 芯矽科技 企业号

型号：RFICP 140 品牌：

源 RFICP 140 是一款紧凑的有栅极离子源, 非常适用于离子束溅射沉积, 离子辅助沉积和离子束刻蚀. 在

2023-05-11 14:14 伯东企业（上海）有限公司 企业号

型号：qxzKOH<b class='flag-s-7'>刻蚀</b> 品牌：

晶片规格： 2-8〞单、双cassette  主要材料: 金属骨架+PP/PVC壳体，槽体材质PP/PVDF/PTFE/石英  工艺槽功能： 加热冷却+旋转  基础工艺流程: KOH→HQDR KOH→QDR H2SO4→QDR  设备类型： 手动/半自动（定制）   Footprint : 2000 (W)

2022-12-15 13:03 苏州清芯卓半导体设备有限公司 企业号

型号：<b class='flag-s-7'>离子</b>蚀刻机 品牌：

因产品配置不同, 价格货期需要电议, 图片仅供参考, 一切以实际成交合同为准伯东公司日本原装进口小型离子蚀刻机, 适用于科研院所, 实验室研究, 干式制程的微细加工

2022-11-07 16:41 伯东企业（上海）有限公司 企业号

型号：<b class='flag-s-7'>离子</b>风刀 品牌：

离子风刀设计用于中和和清洁平面和曲面，气刀可配合使用MEB、Performax IQ Easy或P-SH-N-EX一起使用，MEB采用适用中和静电，Performax IQ Easy可提供24VDC

2024-12-31 15:56 深圳市荣盛源科技有限公司 企业号

型号：RNK 品牌：

PFA花篮又叫PFA清洗花蓝 、 特氟龙卡匣、 特氟龙晶舟盒、特氟龙晶圆盒、特氟龙晶片清洗架、特氟龙晶圆架、特氟龙刻蚀花篮、特氟龙刻蚀清洗架、PFA显影花篮型号：RNK-HL产品特点：1、耐高温

2022-09-01 13:30 瑞尼克科技 企业号

型号： 20 IBE-J 品牌：

因产品配置不同, 价格货期需要电议, 图片仅供参考, 一切以实际成交合同为准NS 离子蚀刻机 20 IBE-J上海伯东日本原装进口适合大规模量产使用的离子刻蚀机Φ4 inch X

2022-11-07 17:17 伯东企业（上海）有限公司 企业号