CMOS 集成电路的基础工艺之一就是双阱工艺，它包括两个区域，即n-MO
2022-11-14 09:34
CMOS 集成电路的基础工艺之一就是双阱工艺，它包括两个区域，即n-MO
2022-11-14 09:32
与亚微米工艺类似，双阱工艺是指形成NW和PW的工艺，NMOS 是制造在PW里的，PMOS是制造在NW里的。它的目的是形成
2024-11-04 15:31
CMOS工艺是在PMOS和NMOS工艺基础上发展起来的。
2023-07-06 14:25
可植入、可消化、可互动、可互操作以及支持因特网，这些医疗设备现在及未来独特的需求都要求合适的IC工艺技术与封装。本文将对医疗半导体器件采用的双极性（bipolar）与CMOS工
2012-07-16 17:54
制作芯片的七个步骤：芯片的制造包含数百个步骤，工程量巨大，一颗小小的芯片从设计到量产可能需要四
2021-12-15 11:45
本文介绍了铜互连双大马士革工艺的步骤。 如上图，是双大马士革工艺的一种流程图。
2024-12-10 11:28
Bi-CMOS工艺将双极型器件（Bipolar）与CMOS工艺结合，旨在融合两者的优势。
2025-03-21 14:21
在下面的图中较为详细的显示了堆叠式DRAM单元STI和阱区形成工艺。下图(a)为AA层版图，虚线表示横截面位置。
2023-09-04 09:32
“ 光刻作为半导体中的关键工艺，其中包括3大步骤的工艺：涂胶、曝光、显影。三个步骤有一
2024-10-22 13:52
