CMOS 集成电路的基础工艺之一就是双阱工艺,它包括两个区域,即n-MO
2022-11-14 09:34
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2022-11-14 09:32
与亚微米工艺类似,双阱工艺是指形成NW和PW的工艺,NMOS 是制造在PW里的,PMOS是制造在NW里的。它的目的是形成
2024-11-04 15:31
13um应变补偿多量子阱SLD台面制作工艺的研究台面制作工艺对1?3μm应变补偿多量子阱SLD 的器件性能有重要的影响。根据外延结构,分析比较了两种台面
2009-10-06 09:52
CMOS工艺是在PMOS和NMOS工艺基础上发展起来的。
2023-07-06 14:25
CMOS工艺流程介绍,带图片。 n阱的形成 1. 外延生长
2022-07-01 11:23
本帖最后由 eehome 于 2013-1-5 09:57 编辑 双极型制作工艺
2012-08-20 07:51
可植入、可消化、可互动、可互操作以及支持因特网,这些医疗设备现在及未来独特的需求都要求合适的IC工艺技术与封装。本文将对医疗半导体器件采用的双极性(bipolar)与CMOS工
2012-07-16 17:54
CMOS是一个简单的前道工艺,大家能说说具体process吗
2024-01-12 14:55
制作芯片的七个步骤:芯片的制造包含数百个步骤,工程量巨大,一颗小小的芯片从设计到量产可能需要四
2021-12-15 11:45