CMOS 集成电路的基础工艺之一就是双阱工艺，它包括两个区域，即n-MOS和p-MOS 有源区
2022-11-14 09:34
与亚微米工艺类似，双阱工艺是指形成NW和PW的工艺，NMOS 是制造在PW里的，PMOS是制造在NW里的。它的目的是形成
2024-11-04 15:31
CMOS 集成电路的基础工艺之一就是双阱工艺，它包括两个区域，即n-MOS和p-MOS 有源区，分別对应p
2022-11-14 09:32
CMOS工艺是在PMOS和NMOS工艺基础上发展起来的。
2023-07-06 14:25
CMOS工艺流程介绍，带图片。 n阱的形成 1. 外延生长
2022-07-01 11:23
可植入、可消化、可互动、可互操作以及支持因特网，这些医疗设备现在及未来独特的需求都要求合适的IC工艺技术与封装。本文将对医疗半导体器件采用的双极性（bipolar）与CMOS工
2012-07-16 17:54
CMOS工艺锂电池保护电路图的实现
2012-08-06 11:06
利用Lewis-Riesenfeld不变量理论和与不变量有关的幺正变换方法,研究了双阱结构含时量子输运的微扰论3 获得了双阱内含时薛定谔方程的精确解的完备集，在此基础上
2008-11-27 13:04
精密电流阱电路图
2009-04-02 15:21
CMOS是一个简单的前道工艺，大家能说说具体process吗
2024-01-12 14:55
