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本文以金属刻蚀去胶腔为背景，简述干刻清洗工艺开发和评价过程。针对实际应用中的问题，展开讨论。通过实际案例分析,展示了干刻清洗工艺的应用价值。关键字：干刻清
2009-12-14 11:06
和各向异性刻蚀两种，采用等离子进行刻蚀是各向同性的典型。在光刻胶去胶装置中，氧的等离子体和光刻胶反应形成H2O和CO2气体。此时，作为反应基的氧原子团与光刻胶进行各向同性反应。精细图形进行各向异性很强
2019-08-16 11:11
