高精密、高精细的半导体集成电路产品生产离不开高标准的生产车间，很多半导体集成电路的企业都对自家的半导体无尘车间采用了严格
2020-09-18 14:52
本帖最后由 eehome 于 2013-1-5 09:48 编辑 1.氧化（炉）（Oxidation）对硅半导体而言，只要在高于或等于1050℃的炉管中，如图2-3所示，通入氧气或水汽，自然
2011-09-23 14:41
为室内污染控制。没有洁净室，污染敏感零件不可能批量生产。半导体洁净车间要有密封良好的空间，空气洁净度、温度、湿度、压力、噪音和其他参数可根据需要进行控制。普通车间的管理
2020-12-11 09:19
产业将写入“十四五”规划之中，以应对外部限制。不过半导体集成电路在生产过程中会接触到很多污染物，比如无机离子、有机物质、微生物、气体杂质等等；另外，广义而言，不适当的温度、湿度、光照、静电超标、电磁
2020-09-24 15:17
优势的特性之一（他种半导体，如砷化镓 GaAs，便无法用此法成长绝缘层，因为在550℃左右，砷化镓已解离释放出砷）硅氧化层耐得住850℃ ~ 1050℃的后续制程环境，系因为该氧化层是在前述更高的温度
2012-09-16 20:22
优势的特性之一（他种半导体，如砷化镓 GaAs，便无法用此法成长绝缘层，因为在550℃左右，砷化镓已解离释放出砷）硅氧化层耐得住850℃ ~ 1050℃的后续制程环境，系因为该氧化层是在前述更高的温度
2012-10-07 23:23
一、氧化（炉）（Oxidation）对硅半导体而言，只要在高于或等于1050℃的炉管中，通入氧气或水汽，自然可以将硅晶的表面予以氧化，生长所谓干氧层(dryz/gate oxide)或湿氧层(wet
2012-09-28 14:01
随着温度的升高，金属的电阻率增加，使其具有正的电阻温度系数。半导体的电阻温度系数是负的。非本征半导体的电阻率大于本征
2022-02-25 09:55
0.5微米以上的粉尘10粒。所以Class后头数字越小，洁净度越佳，当然其造价也越昂贵。半导体净化车间洁净度等级标准及要求半导体特性决定其制造过程必须有洁净度要求，环境中杂质对
2020-09-23 14:55
半导体具有独特的导电性能。当环境温度升髙或有光照时，它们的导电能力 会显著增加，所以利用这些特性可以做成各种温敏元件（如热敏电阻）和各种光 敏元件（如光敏电阻、光敏二极管、光敏三极管等）。更重
2017-07-28 10:17
