本帖最后由 kuailesuixing 于 2018-6-4 14:34 编辑 任命Jean-Marc Chery为意法半导体管理委员会唯一成员，出任总裁兼首席执行官中国，2018年6月4日
2018-06-04 14:28
高精密、高精细的半导体集成电路产品生产离不开高标准的生产车间，很多半导体集成电路的企业都对自家的半导体无尘车间采用了严格
2020-09-18 14:52
机在半导体设备中的不可或缺的特性，我国半导体测试设备行业规模也得到不断攀升，在全球的比重在20%左右。半导体净化工程洁净车间，亦称
2020-12-11 09:19
本帖最后由 eehome 于 2013-1-5 09:48 编辑 1.氧化（炉）（Oxidation）对硅半导体而言，只要在高于或等于1050℃的炉管中，如图2-3所示，通入氧气或水汽，自然
2011-09-23 14:41
洁净室粒子计数器技术与服务，始终将半导体洁净室最终使用者的利益与体验放在首位，确保洁净空间的安全、舒适、节能和高效，为半导体洁净室使用者创造真实而持久的价值，早期的净化车间专用尘埃粒子计数器系列产品
2020-09-24 15:17
在制造半导体器件时，为什么先将导电性能介于导体和绝缘体之间的硅或锗制成本征半导体，使之导电性极差，然后再用扩散工艺在本征半导体中掺入杂质形成N型
2012-07-11 20:23
本帖最后由 eehome 于 2013-1-5 09:46 编辑 一、氧化（炉）（Oxidation）对硅半导体而言，只要在高于或等于1050℃的炉管中，通入氧气或水汽，自然可以将硅晶的表面
2012-10-07 23:23
本帖最后由 eehome 于 2013-1-5 09:54 编辑 一、氧化（炉）（Oxidation）对硅半导体而言，只要在高于或等于1050℃的炉管中，通入氧气或水汽，自然可以将硅晶的表面
2012-09-16 20:22
0.5微米以上的粉尘10粒。所以Class后头数字越小，洁净度越佳，当然其造价也越昂贵。半导体净化车间洁净度等级标准及要求半导体特性决定其制造过程必须有洁净度要求，环境中杂质对
2020-09-23 14:55
一、氧化（炉）（Oxidation）对硅半导体而言，只要在高于或等于1050℃的炉管中，通入氧气或水汽，自然可以将硅晶的表面予以氧化，生长所谓干氧层(dryz/gate oxide)或湿氧层(wet
2012-09-28 14:01
