在半导体器件的制造过程中，由于需要去除被称为硅晶片的硅衬底上纳米级的异物（颗粒），1/3的制造过程被称为清洗过程。在半导体器件中，通常进行RCA清洁，其中半导体器件以一
2022-04-20 16:10
半导体设备安装防震装置主要有以下几方面原因：一、高精度加工要求1,光刻工艺(1)光刻是半导体制造的关键步骤，其精度要求极高。例如，在芯片制造中，光刻
2025-02-05 16:48 江苏泊苏系统集成有限公司 企业号
本文中，为了在半导体制造中的平坦化工艺，特别是在形成布线层的工程中实现CMP后的高清洁面，关于湿法清洗所要求的功能和课题，关于适用新一代布线材料时所担心的以降低腐蚀及表面粗糙度为焦点的清洗技术，介绍了至今为止的成果和
2022-04-20 16:11
溶液中含有大量稀释的盐酸去离子水。清洗槽其下部的megaSonic发生器，用于选择性 应用megaSonic能量。油箱里有快速卸油阀底部使解决方案能够被快速跟踪转储通过一个或多个冲洗步骤，包括快速补充喷洒，然后倾倒漂洗水。
2022-03-31 14:58
