在半导体器件的制造过程中，由于需要去除被称为硅晶片的硅衬底上纳米级的异物（颗粒），1/3的制造过程被称为清洗过程。在半导体器件中，通常进行RCA清洁，其中半导体器件以一
2022-04-20 16:10
在这数字化飞速发展的现代社会，半导体行业已经成为科技进步的中流砥柱。而要保证这些半导体元件的高性能和可靠性，清洁度是一个至关重要的因素。这时候，超声波真空清洗机就像超级英雄一般，悄悄地解决了这个
2025-09-08 16:52 科伟达超声波清洗设备 企业号
本文中，为了在半导体制造中的平坦化工艺，特别是在形成布线层的工程中实现CMP后的高清洁面，关于湿法清洗所要求的功能和课题，关于适用新一代布线材料时所担心的以降低腐蚀及表面粗糙度为焦点的清洗技术，介绍了至今为止的成果和
2022-04-20 16:11
超声波清洗设备是一种常用于清洗各种物体的技术，它通过超声波振荡产生的微小气泡在液体中破裂的过程来产生高能量的冲击波，这些冲击波可以有效地去除表面和细微裂缝中的污垢、油脂、污染物和杂质。超声波
2025-06-06 16:04 科伟达超声波清洗设备 企业号
