半导体晶圆清洗设备市场预计将达到129\.1亿美元。到 2029 年。晶圆清洗是在不影响半导体表面质量的情况下去除颗粒或污染物的过程。器件
2023-04-03 09:47
半导体晶圆制造工艺需要用到各种特殊的液体，如显影液，清洗液，抛光液等等，这些液体中表面活性剂的浓度对工艺质量效果产生深刻
2022-01-24 16:12
制造过程中，清洗是一个必不可少的环节。这是因为半导体材料表面往往存在杂质和污染物，这些杂质和污染物会严重影响半导体的性能和可靠性。
2023-12-26 13:51
器件方向发展结构和半导体改性清洗的需要，除了硅，在前一种情况下，用于下一代CMOS栅极结构文章全部详情：壹叁叁伍捌零陆肆叁叁叁以及深3D几何图形的垂直表面的清洁和调理MEMS设备这些问题加速的步伐除硅以外的
2023-04-23 11:03
本发明公开了一种用湿式均匀清洗半导体晶片的方法,所公开的本发明的特点是:具备半导体晶片和含有预定清洁液的清洁组、对齐上述
2022-04-14 15:13
用半导体制造中的清洗过程中使用的酸和碱溶液研究了硅片表面的颗粒去除。
2022-07-05 17:20
今天我们来聊一下非接触除尘设备在半导体清洗领域的应用，说起半导体清洗，是指对晶圆表面进行无损伤
2023-09-04 18:47
半导体清洗SC1是一种基于氨水（NH₄OH）、过氧化氢（H₂O₂）和去离子水（H₂O）的化学清洗工艺，主要用于去除硅片表面的有机物、颗粒污染物及部分金属杂质。以下是其技
2025-04-28 17:22
在半导体芯片清洗中，选择合适的硫酸类型需综合考虑纯度、工艺需求及技术节点要求。以下是关键分析： 1. 电子级高纯硫酸（PP级硫酸） 核心优势： 超高纯度：金属杂质含量极低（如Fe、Cu、Cr等
2025-06-04 15:15
