`书籍：《炬丰科技-半导体工艺》文章：GaN的晶体湿化学蚀刻[/td][td]编号：JFSJ-21-0作者：炬丰科技网址：http://www.wetsemi.com/index.html 目前
2021-07-07 10:24
` 谁来阐述一下覆铜板生产对身体有没有危害？`
2020-01-09 15:37
本文是为了在Si基板蚀刻制造金刚石时提高制造收率，为此，将半导体Si基板接入阳极，将Pt电极接入阴极后，在pt电极用跳汰机内放入氮气泡泡器，旋转对向的正电极上外部认可电压，泡泡器内吹入氮气，在加温
2022-03-24 16:47
书籍：《炬丰科技-半导体工艺》文章：硅纳米柱与金属辅助化学蚀刻的比较编号：JFSJ-21-015作者：炬丰科技网址：http://www.wetsemi.com/index.html摘要
2021-07-06 09:33
书籍：《炬丰科技-半导体工艺》文章：GaN晶体蚀刻的几何方面和光子应用编号：JFSJ-21-044作者：炬丰科技网址：http://www.wetsemi.com/index.html摘要：湿法
2021-07-08 13:09
书籍：《炬丰科技-半导体工艺》文章：GaN、ZnO和SiC的湿法化学蚀刻编号：JFKJ-21-830作者：炬丰科技摘要宽带隙半导体具有许多特性，使其对高功率、高温器件应用具有吸引力。本文综述了三种
2021-10-14 11:48
本文首先阐述了点焊的概念，其次介绍了点焊的特点，最后分析了点焊的危害。
2020-09-04 15:11
在半导体器件制造中，蚀刻是指选择性地从衬底上的薄膜去除材料并通过这种去除在衬底上创建该材料的图案的技术。该图案由一个能够抵抗蚀刻过程的掩模定义，其创建过程在光刻中有详细描述。一旦掩模就位，就可以通过湿化学或“干”物理
2022-03-10 13:47
书籍：《炬丰科技-半导体工艺》文章：InGaP 和 GaAs 在 HCl 中的湿蚀刻编号：JFSJ-21-0作者：炬丰科技关键字：InGaP，湿法蚀刻，蚀刻速率 在H3
2021-07-09 10:23
众所周知，静电是无处不在，无时不刻都在发生的，上一秒消除下一秒它又产生，从生活中的静电到工业静电，皆是如此。而在众多工业领域中，静电对半导体生产制造过程产生的影响额外明显，所以半导体行业对静电的防护要求也比其他行业要高，那么静电对其的
2023-05-08 11:00
