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在半导体行业中，清洗芯片晶圆、陶瓷片和硅片是确保器件性能与良率的关键步骤。以下是常用的清洗方法及其技术要点：物理

2025-08-19 11:40 芯矽科技 企业号

浸入氨水，过氧化氢溶液，盐酸等加热的化学品中。然而，最近，为了降低环境负荷的目的和半导体器件的多品种化，需要片叶式的清洗方法，喷射纯水的清洗工序正在增加。在单片式

2022-04-20 16:10

半导体清洗设备的选型是一个复杂的过程，需综合考虑多方面因素以确保清洗效果、效率与兼容性。以下是关键原则及实施要点：污染物特性适配性污染物类型识别：根据目标污染物的种类（如颗粒物、有机物、金属离子或

2025-08-25 16:43 芯矽科技 企业号

在我们阐明半导体芯片之前，我们先应该了解两点。其一半导体是什么，其二芯片是什么。

2018-07-18 09:50

半导体清洗机的循环泵是确保清洗液高效流动、均匀分布和稳定过滤的核心部件。以下是其正确使用方法及关键注意事项：一、启动前准备系统检漏与排气确认所有连接管路无松动或泄漏（可

2025-07-29 11:10 芯矽科技 企业号

半导体RCA清洗工艺中使用的主要药液包括以下几种，每种均针对特定类型的污染物设计，并通过化学反应实现高效清洁：SC-1（碱性清洗液）成分组成：由氢氧化铵（NH₄OH）、过氧化氢（H₂O₂）和去离子水

2025-09-11 11:19 芯矽科技 企业号

大难题。本文将详尽阐述超声波真空清洗机在半导体行业中的广泛应用与独特效果，让你一窥这“清洁达人”的风采。你是否对于那些小小的半导体芯片是如何洁净到发光感到好奇？是否想

2025-09-08 16:52 科伟达超声波清洗设备 企业号

半导体的制造以硅晶圆为起点，经过形成前工序的晶体管的FEOL，插头形成的MOL，以及连接晶体管作为电子电路发挥作用的布线工序的BEOL，形成器件芯片，在后工序中，将芯片进行个片化后进行封装，完成

2022-04-20 16:11

氮化镓半导体芯片（GaN芯片）和传统的硅半导体芯片在组成材料、性能特点、应用领域等方面存在着明显的区别。本文将从这几个方

2023-12-27 14:58

半导体清洗机中氮气排放的系统化解决方案，涵盖安全、效率与工艺兼容性三大核心要素：一、闭环回收再利用系统通过高精度压力传感器实时监测腔室内氮气浓度，当达到设定阈值时自动启动循环模式。采用活性炭吸附柱

2025-07-29 11:05 芯矽科技 企业号