在半导体器件的制造过程中，由于需要去除被称为硅晶片的硅衬底上纳米级的异物（颗粒），1/3的制造过程被称为清洗
2022-04-20 16:10
在这篇文章中，我们将学习基本的半导体制造过程。为了将晶圆转化为半导体芯片，它需要经历一系列复杂的
2024-10-16 14:52
本发明涉及一种去除光刻胶的方法，更详细地说，是一种半导体制造用光刻胶去除方法，该方法适合于在半导体装置的制造
2022-04-13 13:56
半导体制造工艺之光刻工艺详解
2023-08-24 10:38
半导体元素是芯片制造的主要材料，芯片运算主要是用二进制进行运算。所以在电流来代表二进制的0和1，即0是不通电，1是通电。正好半导
2025-04-15 09:32
在半导体硅片生产过程中，精确调控材料的电阻率是实现器件功能的关键，而原位掺杂、扩散和离子注入正是达成这一目标的核心技术手段。下面将从专业视角详细解析这三种技术的工艺过程与本质区别。
2025-07-02 10:17
在集成电路的制造过程中，有一个重要的环节——光刻，正因为有了它，我们才能在微小的芯片上实现功能。
2018-12-29 15:32
光刻是半导体工业的核心技术。自1960年Fairchild Semiconductor的罗伯特·诺伊斯发明单片集成电路以来，光刻一直是主要的光刻技术。
2022-11-14 11:36
半导体设备光刻机防震基座的安装涉及多个关键步骤和考虑因素，以确保光刻机的稳定运行和产品质量。首先，选择合适的防震基座需要考虑适应工作环境。由于半导体设备通常在洁净的环境
2025-02-05 16:48 江苏泊苏系统集成有限公司 企业号
在 MEMS（微机电系统）制造领域，光刻工艺是决定版图中的图案能否精确 “印刷” 到硅片上的核心环节。光刻 Overlay（套刻精度），则是衡量光刻机将不同层设计图案对
2025-06-18 11:30
