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  • 半导体离子注入工艺评估

    掺杂物的种类、结深与掺杂物浓度是离子注入工艺的最重要因素。掺杂物种类可以通过离子注入机的质谱仪决定,掺杂物浓度由离子束电流与注入时间的乘积决定。四点探针是

    2023-07-07 09:51

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    2023-12-11 18:20

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    2011-05-22 16:40

  • 离子注入的特点

    离子注入的特点,与通常的冶金方法不同,离子注入是用高能量的离子注入来获得表面合金层的,因而有其特点。

    2011-05-22 12:27

  • 什么是离子注入技术

    本文详细介绍离子注入技术的特点及性能,以及离子注入技术的英文全称。

    2011-05-22 12:13

  • 离子注入技术原理

    详细介绍离子注入技术的工作原理和离子注入系统原理图。

    2011-05-22 12:24