半导体制造是典型的“精度至上”领域,尤其在前道晶圆加工和后道封装环节中,研磨(Grinding)与抛光(Polishing)技术直接决定了器件的性能和良率。以下从技术原理、工艺难点及行业趋势三方面
2025-02-14 11:06
本文介绍了半导体研磨方法中的化学机械研磨抛光CMP技术。
2024-02-21 10:11
研磨机研磨盘FNNS-510000-0 21H017CW的应用场景主要集中在半导体材料加工领域,以下为具体分析: 该研磨盘作为DISCO
2025-07-12 09:50
BILLERICA, Massachusetts,2016 年 1 月 28 日 – Entegris, Inc. (NASDAQ: ENTG)(一家为先进制造环境提供良率提升材料和相关解决方案的领先企业)日前发布了针对半导体制造的新型化学机械研磨(CMP)后清
2016-01-29 14:03
DISCO研磨盘FNNS-510000-0 21H017CW主要适用于半导体材料加工领域,具体如下: 半导体材料加工:该研磨盘是DISCO
2025-07-12 09:51
半导体配电工程为什么能用到弧光保护? 1.快速切除故障 半导体生产设备对供电连续性和稳定性要求极高。例如在芯片制造的光刻工序中,突然断电可能导致正在加工的芯片报废。弧光保护
2025-01-02 16:02