在半导体器件的制造过程中，由于需要去除被称为硅晶片的硅衬底上纳米级的异物（颗粒），1/3的制造过程被称为清洗过程。在半导体器件中，通常进行RCA清洁，其中半导体器件以一
2022-04-20 16:10
本文首先对全景图像的成像进行了分析，紧接着对现有的在全景图像上的卷积方式进行了分类介绍，并对现有的全景图像数据集进行了收集并介绍。作为第一篇全面回顾和分析深度学习方法在全景图
2022-10-19 15:25
本文中，为了在半导体制造中的平坦化工艺，特别是在形成布线层的工程中实现CMP后的高清洁面，关于湿法清洗所要求的功能和课题，关于适用新一代布线材料时所担心的以降低腐蚀及表面粗糙度为焦点的清洗技术，介绍了至今为止的成果和
2022-04-20 16:11
超声波清洗设备是一种常用于清洗各种物体的技术，它通过超声波振荡产生的微小气泡在液体中破裂的过程来产生高能量的冲击波，这些冲击波可以有效地去除表面和细微裂缝中的污垢、油脂、污染物和杂质。超声波
2025-06-06 16:04 科伟达超声波清洗设备 企业号
半导体（ semiconductor），指常温下导电性能介于导体（conductor）与绝缘体（insulator）之间的材料。半导体在收音机、电视机以及测温上有着广泛的应用。如二极管就是采用
2018-04-27 14:43
IP核具有知识产权核的集成电路的总称。经反复验证,具有特定功能的宏模块。可移植到不同半导体工艺中。
2022-11-11 10:03
气相清洗设备是溶剂清洗设备，它是利用溶剂蒸气不断地蒸发和冷凝，使被清洗工件不断“出汗”并带出污染物的原理进行
2020-03-25 11:23
