在最近的半导体清洁方面，以生物碱为基础的RCA清洁法包括大量的超纯和化学液消耗量以及清洁时多余薄膜的损失； 由于环境问题，对新的新精液和清洁方法的研究正在积极进行。 特别是在超纯水中混合气体，利用Megasonic进行功能水清洁，是为了解决传统RCA清洁
2022-04-14 16:06
使用，为了提高表面的清洁度，进行了清洗法的改良，降低使用的超纯水、药品中的污染等方面的努力。今后为了进一步提高表面清洁度，有必要比以前更多地减少工艺中的污染，但这并不是把污染金属集中起来处理，而是考虑到每个元素在液体中的行为不同，在本文中，介绍了关于Si晶圆表面金属在清洗
2022-03-28 15:08
在半导体制造工序的硅晶圆的清洗中，RCA清洗法被很多企业使用。RCA清洗方法是清洗硅片的行业标准方法，其中
2022-04-15 14:55
超声波清洗机通过使用高频声波(通常在20-400kHz)在清洗液中产生微小的气泡，这种过程被称为空化。这些气泡在声压波的影响下迅速扩大和破裂，产生强烈的冲击力，将附着在物体表面的污垢剥离。以下
2025-05-21 17:01 科伟达超声波清洗设备 企业号
利用硅藻土和稀硫酸溶液对电路板组装件的废清洗液进行处理，并对处理前后的废清洗液进行 FTIR、UV以及水质分析等测试。由类似的FTIR、UV光谱分析可知处理前后的废清洗液中均含部分
2023-04-12 11:14
超声清洗机可用于溶剂清洗，也可用于水清洗工艺。它是利用超声波的作用使清洗液体产生孔穴作用、扩散作用及振动作用，对工件进行清洗
2020-03-24 11:29
与过氧化氢水( H2O2水)的清洗液。目前市场上的工业H2O2水大部分采用蒽衍生物的自动氧化法生产。该制法是将蒽醌溶解于疏水性芳香族有机物中作为工作液使用的方法，合成的H2O2水中残留有少量疏水性有机物。另外，由于制造设备由不锈钢和铝等金属材料构成，因此来源于其的
2022-04-19 11:22
在半导体器件的制造过程中，由于需要去除被称为硅晶片的硅衬底上纳米级的异物（颗粒），1/3的制造过程被称为清洗过程。在半导体器件中，通常进行RCA清洁，其中半导体器件以一
2022-04-20 16:10
本文使用高频超声波的半导体单片清洗中的微粒子去除进行了研究。水中的超声波在波导管内传播时，根据波导管的内径形成平面波以外的波导管模式，此时，通过LDV测量确认了波导管弯曲振动，成为具有行波分布的传播
2022-04-14 16:55
RCA清洗技术是用于清洗硅晶圆等的技术，由于其高可靠性，30多年来一直被用于半导体和平板显示器(FPD)领域的清洗。其基础是以除去颗粒为目的的氨水-过氧化氢溶液组成的S
2022-04-21 12:26
