从液晶显示器的工作原理以及由来进行讲述，到怎样清洗液晶显示器和如何清洗液晶显示器。非常的详细。
2008-06-10 00:57
我们华林科纳研究了基于柠檬酸(CA)的清洗液来去除金属污染物硅片表面。 采用旋涂法对硅片进行Fe、Ca、Zn、Na、Al、Cu等标准污染，并在各种添加Ca的清洗液中进行清洗。 金属的浓度采用气相分
2022-03-07 13:58
引言 用电化学和原子力显微镜方法对有机酸与铜的相互作用进行了表征可以建立用于湿铜加工的高效清洗公式。本文研究了单有机酸、二有机酸和三有机酸中铜的蚀刻速率和氧化机理。除了草酸的钝化性能外，其他铜
2022-01-13 14:02
在最近的半导体清洁方面，以生物碱为基础的RCA清洁法包括大量的超纯和化学液消耗量以及清洁时多余薄膜的损失； 由于环境问题，对新的新精液和清洁方法的研究正在积极进行。 特别是在超纯水中混合气体，利用Megasonic进行功能水清洁，是为了解决传统RCA清洁
2022-04-14 16:06
苏州晶淼专业生产半导体、光伏、LED等行业清洗腐蚀设备，可根据要求定制湿法腐蚀设备。晶淼半导体为国内专业微电子、半导体行业腐蚀清
2016-09-05 10:40
半导体VTC清洗机的工作原理基于多种物理和化学作用，以确保高效去除半导体部件表面的污染物。以下是对其详细工作机制的阐述： 一、物理作用原理 超声波清洗 空化效应：当超声
2025-03-11 14:51
随着半导体工业的发展，多层处理变得越来越复杂，清洗溶液和蚀刻化学物质在提高收率和减少缺陷方面的作用变得越来越重要。本文证明了具有铜和钨相容性的成功配方，并具有层间介电(ILD)
2022-04-06 16:33
增加，引起冲击声压下降，反应出这两因素的相乘作用。五、关于清洗液量的多少和清洗零件的位置的确定 ?? 一般清洗液液面高于振动子表面 100mm 以上为佳。由于单频
2009-06-18 08:55
。确定了反应动力学相对于心衰和氧浓度都是一阶的。提出了一种涉及氧的Cu0和Cu1+的还原和氧化的动力学方案，这与实验确定的反应动力学顺序和在清洗过程中观察到的不良铜残留物在半导体晶片上的沉积相一致。我们研究目的是研究铜薄膜
2022-01-07 13:15
使用，为了提高表面的清洁度，进行了清洗法的改良，降低使用的超纯水、药品中的污染等方面的努力。今后为了进一步提高表面清洁度，有必要比以前更多地减少工艺中的污染，但这并不是把污染金属集中起来处理，而是考虑到每个元素在液体中的行为不同，在本文中，介绍了关于Si晶圆表面金属在清洗
2022-03-21 13:40
